Priemyselný-systém vákuového lakovania integrujúci magnetrónové naprašovanie (RF/DC/HiPIMS) a katódové oblúkové odparovanie. Navrhnuté na kontinuálne, viac{2}}vrstvové, zliatinové a nano{3}}kompozitné tenké-nanášanie vo výrobnom meradle.
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Hodnota špecifikácie |
|
Konečný vákuový tlak |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Rozmery komory |
Vlastná veľkosť od D 600 mm x 600 mm do D 1500 mm x 1500 mm (304/316L elektro-leštená nehrdzavejúca oceľ) |
|
Depozičné zdroje |
Konfigurovateľné: 2-6 magnetrónových naprašovacích katód / 2-4 oblúkové zdroje |
|
Substrate Bias Power |
0 až -1000 V DC nastaviteľné (pulzný jednosmerný prúd pre dielektrické substráty) |
|
Rovnomernosť hrúbky filmu |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Teplota substrátu |
Okolité na 650 stupňov (regulácia uzavretej slučky PID +/- 2 stupňov) |
|
Distribúcia energie |
RF (13,56 MHz), jednosmerný prúd, pulzný jednosmerný prúd a stredná{1}}frekvencia (MF) s potlačením oblúka |
Kľúčové vlastnosti
Integrácia duálnej{0}}technológie:Kombinuje naprašovanie (hladké, amorfné zložené filmy) a katódový oblúk (vysoko-ionizácia kovu/zliatiny) v jednom cykle odčerpania-dole.
Uzavreté{0}}riadenie plynu v slučke:Regulátory hmotnostného toku (MFC) spárované s optickým monitorovaním emisií (OEM) stabilizujú parciálne tlaky reaktívneho plynu.
Mechanická izolácia:Viac{0}}osové planétové pohony izolujú mechanické ložiská od procesnej zóny, čím zabraňujú kontaminácii časticami.
Tepelná architektúra:Dvojité{0}}vodou chladené{1}}steny komory a tienenie pred žiarením zabraňujú tepelnému skresleniu počas-prevádzky s vysokým výkonom.
Jadro automatizácie:Siemens S7-1500 PLC a architektúra WinCC SCADA pre blokovanie v reálnom čase, monitorovanie plynu a napájania.
Konfigurácia vákuového systému
Hrubý vlak:Rotačné lopatkové čerpadlá s priamym{0}}pohonom podporované Rootsovými dúchadlami s magnetickými kvapalinovými tesneniami.
Vysoké vákuum:Magneticky levitované turbo-molekulárne čerpadlá (1200 - 3200 l/s) alebo kryogénne čerpadlá.
Diagnostika:Integrované héliové testovacie porty hmotnostného spektrometra a automatické sekvenčné blokovania.
Kompatibilita materiálov a substrátov
Cieľové materiály:
Kovy:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Keramika/zmesy:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Substráty:Nástrojové ocele (H13, M2, karbidové doštičky), konštrukčné zliatiny titánu/hliníka, konštrukčná keramika a kremíkové doštičky.
Aplikácie a overený výkon
Nástroje na rezanie:Viacvrstvové povlaky (TiAlN/TiN) s nízkym{0}}trením a vysokou{1}}tvrdosťou (TiAlN/TiN) pre predĺženú životnosť nástroja pri suchom vysokorýchlostnom-obrábaní.
Automobilový priemysel:Povlaky proti opotrebeniu a{0}}odieraniu piestnych krúžkov a kolíkov vstrekovania paliva.
Letectvo:Tepelná bariéra a ochranné fólie na lopatkách a upevňovacích prvkoch kompresora-odolné voči oxidácii.
Optika a elektronika:Vodivé transparentné oxidy (ITO) a optické interferenčné filtre.
Možnosti prispôsobenia
Geometria komory:Obdĺžnikové konfigurácie boxov pre dávkové nakladanie do regálov alebo valcové inline geometrie.
Dodatočné vybavenie zdroja:Vymeniteľné katódové montážne príruby na prestavbu v teréne na CFUBMS.
Plazmové leptanie:Iónové pištole Kaufmann-typu alebo zdroje s dutou katódou na čistenie substrátu in situ.
Kontrola kvality a výrobné testovanie
Integrita vákua:Prahová hodnota testu netesnosti hélia<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Povrchová úprava:Vnútorné zvary komory elektro-leštené na Ra<= 0.4 um.
TUKY:72-hodinový nepretržitý suchý test vákua, pohybu a bezpečnostných prepojovacích slučiek pred uložením do prepravky.
Normy súladu:Vyrobené podľa smerníc CE pre strojné zariadenia a noriem ISO 9001. (Ikony odznaku dôvery: ISO 9001, CE, UL)
Inštalácia a technická podpora
Balík dokumentácie:Schémy P&ID, schémy elektrického zapojenia, logika zdroja PLC a dokumentácia zhody CE/UL.
Uvedenie do prevádzky:Poľní inžinieri dohliadajú na mechanické polohovanie, zapojenie do siete a overenie kontroly úniku.
SAT a odovzdanie receptov:Základné testovanie na{0}stránke a optimalizácia receptov.
FAQ
Otázka: Aký je čas-odstávky pumpy na základný tlak?
Odpoveď: Dosahuje < 5,0 x 10^-4 Pa do 45 minút v čistých, suchých a okolitých tepelných podmienkach.
Otázka: Môže systém prepínať medzi jednosmerným a vysokofrekvenčným naprašovaním uprostred-procesu?
A: Áno. Výkonová matica umožňuje softvérovo-riadené sekvenovanie medzi jednosmerným, pulzným jednosmerným a vysokofrekvenčným prúdom bez prerušenia vákua.
Otázka: Aké nástroje sú potrebné na-stránke?
Odpoveď: Chladená voda (15 až 20 stupňov pri 0,3 až 0,4 MPa), stlačený vzduch (0,6 MPa), procesné plyny vysokej{5}}čistoty (Ar, N2, O2 pri 99,999 %) a vyhradený 3-fázový priemyselný výkon.
Otázka: Ako sa reguluje teplota substrátu počas nanášania?
Odpoveď: Integrované infračervené pyrometre spojené so sálavými ohrievačmi a PID reguláciou-slučky.
Populárne Tagy: pvd kompozitný tenký filmový systém, Čína výrobcovia pvd kompozitného tenkého filmu, dodávatelia, továreň
