Prehľad produktov
PVD Composite Thin Film Equipment je priemyselná vákuová depozičná platforma navrhnutá na nanášanie viacvrstvových, zliatinových a nanokompozitných tenkých vrstiev. Integráciou magnetrónového naprašovania a zdrojov katódového oblúka do jednej vákuovej komory systém umožňuje presnú kontrolu nad mikroštruktúrou filmu, zvyškovým napätím a medzifázovou adhéziou. Platforma, vytvorená pre nepretržitú výrobu a pokročilý výskum a vývoj, využíva kovové, keramické a polymérové substráty so škálovateľnou geometriou komory.
-
![Zariadenie na kompozitné vákuové nanášanie PVD]()
Zariadenie na kompozitné vákuové nanášanie PVDTáto priemyselná platforma PVD kompozitného vákuového nanášania integruje viaceré techniky nanášania do prostredia jednej komory na nanášanie rovnomerných, viacvrstvových{0}vrstvových kovových,...Zobraziť viac -
![Hybridný systém nanášania tenkých vrstiev PVD]()
Hybridný systém nanášania tenkých vrstiev PVDPVD Hybrid Thin Film Deposition System integruje tepelné odparovanie, odparovanie elektrónovým lúčom (e-lúčom) a RF/DC magnetrónové naprašovanie v rámci jedinej vákuovej architektúry. Táto...Zobraziť viac -
![PVD viac{0}}procesné zariadenie na tenké filmy]()
PVD viac{0}}procesné zariadenie na tenké filmyZariadenie PVD Multi{0}}Process Thin Film Equipment je integrovaná platforma na vákuové nanášanie navrhnutá tak, aby spájala viacero techník výroby tenkých{1}}vrstvov – vrátane RF/DC...Zobraziť viac -
![Zariadenie na nanášanie kompozitov PVD]()
Zariadenie na nanášanie kompozitov PVDPriemyselné zariadenie na nanášanie kompozitov PVD je navrhnuté na výrobu viac{0}}zložkových, viacvrstvových{1}}vrstvových a nano{2}}kompozitných tenkých-fólií. Systém integruje tepelné...Zobraziť viac -
![PVD kompozitný tenký filmový systém]()
PVD kompozitný tenký filmový systémPriemyselný-systém vákuového lakovania integrujúci magnetrónové naprašovanie (RF/DC/HiPIMS) a katódové oblúkové odparovanie. Navrhnuté na kontinuálne, viac{2}}vrstvové, zliatinové a...Zobraziť viac -
![Vybavenie PVD kompozitného tenkého filmu]()
Vybavenie PVD kompozitného tenkého filmuPVD Composite Thin Film Equipment je priemyselná vákuová platforma navrhnutá na syntézu viacvrstvových, zliatinových a triedených tenkých vrstiev. Je postavený na modulárnej architektúre z...Zobraziť viac
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Rozsah špecifikácií |
|
Konečný vákuový tlak |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Pracovný tlak |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Teplota substrátu |
Okolité do 800 stupňov (riadená-uzavretá slučka PID) |
|
Depozičné zdroje |
Konfigurovateľné: DC/RF magnetrónové naprašovanie, pulzný jednosmerný prúd, filtrovaný katódový oblúk |
|
Rovnomernosť hrúbky |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Komorový materiál |
Nehrdzavejúca oceľ 304L/316L, mechanicky brúsená a elektro-leštená (Ra<= 0.4 um) |
|
Integrácia napájania |
MF generátory (10-100 kHz), RF generátory (13,56 MHz), pulzné jednosmerné predpätie |
|
Kontrolný systém |
Priemyselné PLC + IPC s automatizovaným vykonávaním receptov, monitorovaním blokovania a zaznamenávaním údajov o dávkach |
Proces kompozitného nanášania
Systém využíva hybridnú architektúru fyzikálneho naparovania, ktorá kombinuje technológie magnetrónového naprašovania a katódového oblúka.
Viac{0}}zdrojová synergia:
Simultánna alebo sekvenčná prevádzka viacerých katód umožňuje náhle alebo odstupňované kompozičné prechody cez vrstvu filmov.
Predčistenie pomocou iónového leptania-:
Fázy vysokofrekvenčného alebo jednosmerného plazmového čistenia odstraňujú natívne oxidy a povrchové kontaminanty ešte pred nanesením, aby sa maximalizovala priľnavosť-k{1}}podkladu.
Riadenie reaktívnej depozície:
Optická emisná spektroskopia (OES) s uzavretou slučkou reguluje vstrekovanie reaktívneho plynu (O2, N2, C2H2), aby sa zachovala stabilná stechiometria zlúčeniny a zabránilo sa otrave cieľa.
Ovplyvnenie substrátu:
Synchronizované pulzné napájacie zdroje bombardujú rastúci film iónmi s vysokou{0}}energiou, čím zahusťujú mikroštruktúru a prispôsobujú zvyškové tlakové napätie.
Filmové materiály
Zariadenie podporuje široké spektrum cieľových materiálov pre prispôsobené funkčné požiadavky:
Nitridy a karbidy prechodných kovov:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN pre odolnosť proti opotrebovaniu a korózii.
Nanokompozitné a viacvrstvové systémy:
TiSiN, AlTiSiN, kovové/keramické nanovrstvy pre extrémnu tvrdosť a tepelnú stabilitu pri vysokých-teplotách.
Transparentné vodivé oxidy (TCO):
ITO, AZO, IGZO pre optoelektronické a fotovoltaické aplikácie.
Čisté kovy a zliatiny:
Ti, Cr, Al, Cu, Stainless Steel, NiCr pre elektrické kontaktné a difúzne bariérové vrstvy.
Aplikácie
Presné rezné nástroje:
Nanášanie super-tvrdých povlakov s nízkym{1}}trením (napr. TiAlN) na karbidové doštičky, vrtáky a koncové-frézy na predĺženie prevádzkovej životnosti pri vysokom tepelnom zaťažení.
Automobilové komponenty:
Filmy na piestne krúžky, časti vstrekovania paliva a ozubené súčiastky odolné proti{0}}treniu a opotrebovaniu-.
Optoelektronika a displeje:
Vodivé oxidové vrstvy s nízkym-odporom a vysokou{1}}priepustnosťou pre dotykové panely a substráty solárnych článkov.
Lekárske pomôcky:
Biokompatibilné povlaky-odolné voči opotrebovaniu na chirurgických nástrojoch a ortopedických implantátoch.
Prispôsobenie a konfigurácia systému
Inžinierske konfigurácie sú prispôsobené špecifickým obmedzeniam výrobného zariadenia a procesným receptúram:
Veľkosť komory:
Možnosti valcových alebo pravouhlých komôr siahajú od dávkových systémov R&D (priemer 500 mm) až po veľkorozmerné -základné výrobné-systémy (1000 mm+).
01
Výber čerpacej suity:
Zosúladenie koreňových dúchadiel, turbomolekulárnych čerpadiel a kryogénnych čerpadiel na základe požadovaných{0}}časov odstávky a profilov zaťaženia plynu.
02
Upevnenie podkladu:
Prispôsobené planetárne rotačné stupne, 3-satelitné otáčanie alebo rolovacie-moduly určené pre zložité 3D geometrie alebo súvislé pásy.
03
Úroveň automatizácie:
Poloautomatické konfigurácie manuálneho zaťaženia alebo plne automatizované vákuové prenosové systémy s robotickou manipuláciou so substrátom.
04
Výroba a kontrola kvality
Detekcia úniku:
Každá vákuová komora sa podrobuje testovaniu netesnosti héliovým hmotnostným spektrometrom na prahovú hodnotu < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Kontrola zvarov:
Vákuové-bočné zvary sú zvárané, brúsené a leštené metódou TIG, po ktorých na požiadanie nasleduje röntgenová kontrola alebo kontrola penetračným náterom.
Elektrická a bezpečnostná zhoda:
Ovládacie panely vyrobené v súlade s normami NFPA 79 alebo CE/IEC s hardvérovým blokovaním pre prietok vody, tlak plynu a elektrickú bezpečnosť.
Továrenské akceptačné testovanie (FAT):
Pred-testovanie zásielky zahŕňa 72{2}}hodinové nepretržité cyklovanie za sucha-, overenie výkonu vákua a skúšobné nanášanie povlaku pomocou receptov špecifikovaných klientom.
Pokyny na prípravu lokality:Poskytnutý dokument o komplexných požiadavkách na zariadenie s podrobnosťami o rozhraniach siete (prietok/tlak chladiacej vody, elektrická záťaž, stlačený vzduch, výfuk).
Uvedenie do prevádzky na-stránke:Servisní technici vykonávajú mechanické zarovnanie, kontroly úniku vákua, elektrické spoje-a počiatočnú kalibráciu.
Proces ladenia receptúry:Spolupráca-na mieste s metalurgmi klientov a procesnými inžiniermi s cieľom určiť cieľovú hrúbku filmu, napätie a parametre tvrdosti.
Podpora životného cyklu:Vzdialené diagnostické rozhranie, lokalizovaný inventár náhradných dielov a programy plánovanej preventívnej údržby.
FAQ
Sme dobre-známi ako jeden z popredných výrobcov a dodávateľov zariadení na výrobu kompozitných tenkovrstvových zariadení pvd v Číne. Ak sa chystáte kúpiť prispôsobené pvd kompozitné tenké filmové zariadenie vyrobené v Číne, vitajte, ak chcete získať cenník z našej továrne. Pre cenovú konzultáciu nás kontaktujte.
stabilné tenké filmové vybavenie, Tenké filmové vybavenie na ukladanie údajov, tenké filmové vybavenie pre aplikácie na výrobu fotoniky
