Prehľad produktov
Toto zariadenie na odparovanie tenkých vrstiev elektrónovým lúčom je skonštruované na vysoko presné{0}}fyzikálne nanášanie pár (PVD). Systém využíva sústredený vysokoenergetický elektrónový lúč na bombardovanie zdrojových materiálov a dosahuje vysoké rýchlosti vyparovania pre kovy, oxidy a dielektrické materiály s vysokým -bodom topenia-.
Systém je postavený na modulárnej vákuovej architektúre a obsahuje viac{0}}vreckové elektrónové pištole, prispôsobiteľné príslušenstvo substrátu a pokročilé monitorovanie in situ. Slúži výskumným a vývojovým laboratóriám a vysokovýkonným{3}}výrobným linkám, ktoré si vyžadujú prísnu kontrolu nad stechiometriou filmu, adhéziou a optickým výkonom.
-
![Zariadenie na odparovanie vysokovákuového elektrónového lúča]()
Zariadenie na odparovanie vysokovákuového elektrónového lúčaSystém na odparovanie vysokovákuového elektrónového lúča série EBE-nanáša vysoko{1}}čisté tenké vrstvy pre optické, polovodičové a metalurgické aplikácie. Nasmerovaním magneticky zaostreného...Zobraziť viac -
![Systém nanášania tenkých vrstiev elektrónovým lúčom]()
Systém nanášania tenkých vrstiev elektrónovým lúčomSystém nanášania tenkých vrstiev elektrónovým lúčom poskytuje smerové,-vysoko čisté PVD spracovanie pre pokročilý výskum a priemyselnú výrobu. Systém využíva sústredený, magneticky riadený...Zobraziť viac -
![Zariadenie na vákuové odparovanie s elektrónovým lúčom]()
Zariadenie na vákuové odparovanie s elektrónovým lúčomTento systém na vákuové odparovanie s elektrónovým lúčom vykonáva fyzikálne nanášanie pár (PVD) kovov, oxidov a dielektrík s vysokým -bodom topenia-. Nasmerovaním zaostreného elektrónového lúča do...Zobraziť viac -
![Zariadenie na nanášanie tenkých vrstiev elektrónovým lúčom]()
Zariadenie na nanášanie tenkých vrstiev elektrónovým lúčomTento priemyselný systém nanášania elektrónovým lúčom využíva magneticky zaostrené elektrónové delá (3 kW až 15 kW) na nasmerovanie tokov energie s vysokou -hustotou do vodou- chladených medených...Zobraziť viac -
![Systém tenkých vrstiev odparovania elektrónového lúča]()
Systém tenkých vrstiev odparovania elektrónového lúčaSystém EBE-Series Electron Beam Evaporation System je navrhnutý na fyzikálne nanášanie pár (PVD) kovov, dielektrík a optických materiálov s vysokým -bodom topenia-. Využitím magneticky...Zobraziť viac -
![Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie elektrónového lúča]()
Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie elektrónového lúčaSéria EBE{0}}V600 je priemyselná-platforma fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) navrhnutá na precízne tenké{3}}poťahovanie optických komponentov, polovodičových zariadení a pokročilých...Zobraziť viac
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Rozsah špecifikácií |
Poznámky / Štandardná konfigurácia |
|
Konečný základný tlak |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Dosahuje sa pomocou kryogénnych alebo turbo{0}}molekulárnych čerpacích skupín |
|
Rozmery komory |
Prispôsobené (vnútorný priemer 500 mm až 1200 mm) |
Nerezová oceľ 304L / 316L, elektro-leštená |
|
E-Hodnotenie výkonu pištole |
6 kW až 15 kW (multi-vreckové generátory) |
Programovateľné vychýlenie lúča a indexovanie viacerých téglikov- |
|
Depozičná sadzba |
0,1 nm/s až 10 nm/s |
Ovládanie{0}}uzavretej{1}}slučky v reálnom čase prostredníctvom monitora z kremenného kryštálu |
|
Rovnomernosť hrúbky filmu |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Planétový alebo kupolový držiak substrátu s premenlivou rýchlosťou otáčania |
|
Teplota substrátu |
Okolitá do 800 stupňov |
Integrované sálavé vykurovanie s tepelnou spätnou väzbou PID |
Kľúčové vlastnosti výbavy
Elektrónová pištoľ s vysokou{0}}stabilitou:
Obsahuje magnetické vychýlenie a viac{0}}bodové zaostrovanie, ktoré zabraňuje lokálnemu prehrievaniu zdrojových materiálov a eliminuje pľuvanie počas reaktívneho odparovania.
Modulárny dizajn téglika:
Vybavené 4 až 6 -vreckovými indexovateľnými ohniskami, ktoré umožňujú viacvrstvové nanášanie bez prerušenia vákua.
Pokročilé vákuové blokovanie:
PLC-riadené pneumatické ventily, automatické zdrsňovanie/vysoké{1}}vákuové poradie a blokovania chránia pred zlyhaním chladiacej vody a anomáliami napájania.
Nízko{0}}kontaminačná komora:
Vnútorné tienenie využíva elektro-leštenú nehrdzavejúcu oceľ s odnímateľnými vložkami pre rýchlu redukciu častíc a údržbu.
Filmové materiály a substráty
Kompatibilné materiály na odparovanie
Kovy: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrika a oxidy: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Typy substrátov
Silikónové doštičky (2 až 12 palcov)
Optické sklo, tavený oxid kremičitý a kremenné substráty
Flexibilné polymérové fólie (polyimid, PET cez rolovacie-do{1}}valcové moduly)
Keramické substráty (Al2O3, AlN)
Aplikácie
Optické povlaky:
Anti{0}}reflexné (AR) vrstvy, úzke-pásmové filtre a vysoko{2}}odrazové zrkadlá pre laserové a fotonické systémy.
Polovodičové zariadenia:
Vytváranie ohmických kontaktov, metalizácia hradla a spracovanie{0}}zdvihnutia pre mikroelektroniku.
Optoelektronika:
Transparentné vodivé oxidové (TCO) vrstvy a tenké filmy pre OLED displeje a fotovoltaické články.
Pokročilý výskum a vývoj:
Prieskumné tenké-magnetické vrstvy, supravodivé filmy a viac{1}}vrstvové heteroštruktúry.
Prispôsobenie a konfigurácia systému
Každý tenkovrstvový{0} systém je nakonfigurovaný tak, aby zodpovedal špecifickým procesným receptúram a rozloženiam zariadení. Dostupné inžinierske úpravy zahŕňajú:
Výber čerpacieho zásobníka:
Turbo-molekulárne pumpy (TMP), kryopumpy alebo konfigurácie difúzie oleja- prispôsobené požiadavkám základného vákua a priepustnosti.
Načítať{0}}Zamknúť integráciu:
Zámok manuálneho nakladania{{0} alebo automatizované viackomorové klastrové systémy na udržanie ultra-vysokej integrity vákua a zvýšenie priepustnosti plátkov.
In{0}}metrológia na mieste:
Integračné porty pre spektroskopické elipsometre, optické monitory alebo analyzátory zvyškového plynu (RGA).
Ovládací softvér:
Proprietárne rozhranie PLC/HMI s ukladaním receptov, protokolovaním údajov a komunikačnými protokolmi SECS/GEM pre integráciu inteligentnej továrne.
Výroba a kontrola kvality
Výroba plavidla:
Všetky vákuové komory sa podrobujú testovaniu netesnosti héliovým hmotnostným spektrometrom s prahom odmietnutia < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Integrita zvaru:
Zváranie TIG sa vykonáva pod ochranou inertného plynu, po ktorom nasleduje vnútorná povrchová pasivácia a mechanické leštenie, aby sa znížilo uvoľňovanie plynov.
Továrenské akceptačné testovanie (FAT):
72-hodinový nepretržitý suchý-test merajúci krivky čerpania, presnosť zametania elektronickej pištole, časy odozvy blokovania a tepelnú stabilitu pred uložením do prepravky.
Súlad a normy:
Vyrobené podľa systému manažérstva kvality s certifikáciou ISO 9001 so systémami navrhnutými tak, aby spĺňali smernice CE a príslušné bezpečnostné a ergonomické smernice SEMI (S2/S8).
FAQ
Sme dobre-známi ako jeden z popredných výrobcov a dodávateľov zariadení na odparovanie elektrónového lúča v Číne. Ak sa chystáte kúpiť prispôsobené zariadenie na odparovanie elektrónového lúča vyrobené v Číne, vitajte a získajte cenník z našej továrne. Pre cenovú konzultáciu nás kontaktujte.
tenký filmový senzorový systém
