Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie elektrónového lúča

Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie elektrónového lúča

Podrobnosti
Séria EBE{0}}V600 je priemyselná-platforma fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) navrhnutá na precízne tenké{3}}poťahovanie optických komponentov, polovodičových zariadení a pokročilých materiálov. Nasmerovaním vysokoenergetického, magneticky zaostreného elektrónového lúča na zdrojové materiály vo vnútri vodou chladených téglikov-, systém dosahuje rýchle rýchlosti odparovania a zároveň udržiava tepelné zaťaženie izolované od stien komory.
Klasifikácia výrobku
Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie elektrónového lúča
 
Zaslať požiadavku
Popis
Technické parametre

Séria EBE{0}}V600 je priemyselná-platforma fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) navrhnutá na precízne tenké{3}}poťahovanie optických komponentov, polovodičových zariadení a pokročilých materiálov. Nasmerovaním vysokoenergetického, magneticky zaostreného elektrónového lúča na zdrojové materiály vo vnútri vodou chladených téglikov-, systém dosahuje rýchle rýchlosti odparovania a zároveň udržiava tepelné zaťaženie izolované od stien komory.


Architektúra zahŕňa viac{0}}vreckové elektrónové zdroje a duálne kremenné kryštálové mikrováhy (QCM), ktoré zaisťujú stechiometrickú vernosť filmu a konzistentnú kontrolu hrúbky naprieč viac-vrstvovými dielektrickými alebo kovovými vrstvami.

 

Technické špecifikácie

 

Technický parameter

Hodnota špecifikácie

Geometria a materiál komory

valcová nádoba Φ600 mm x 600 mm; SS304 elektrolyticky leštený interiér s vonkajším plášťom chladiacej vody

Konečný základný tlak

<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping)

Odčerpať-čas cyklu

<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa)

Výkon elektrónovej zbrane

6 kW až 12 kW viac-vrecková konfigurácia s 270-stupňovým vychýlením lúča

Kapacita pece Crucible

4 až 6 vreciek (vymeniteľné medené/grafitové tégliky, objem 15 cm3 až 40 cm3 na jedno vrecko)

Rotácia substrátu

Planétový alebo priamy pohon s premenlivou rýchlosťou 0 až 30 ot./min

Rozsah ohrevu substrátu

Okolité prostredie do 600 stupňov prostredníctvom uzavretého poľa PID-halogénových lámp

Monitorovanie hrúbky

Duálne snímače QCM s automatickým spätným ovládaním uzávierky

 

Kľúčové vlastnosti


270-stupňová magnetická výchylka E-pištole:Izoluje volfrámové vlákno od priamych ciest výparov, čím zabraňuje skratu-a predlžuje prevádzkovú životnosť medzi intervalmi údržby.


Digitálne ovládanie zametania:Programovateľné rastrové vzory distribuujú elektrónovú energiu rovnomerne po povrchu odparovača, čím zmierňujú tvorbu dier a prednostné vyparovanie počas nanášania zliatiny.


Oddelená vákuová architektúra:Hrubé a vysoko{0}}vákuové čerpacie potrubia sú štrukturálne izolované od rámu hlavnej komory, aby sa potlačil prenos mechanických vibrácií počas rastu filmu.


Bezpečnostná matica hardvérového blokovania:Monitorovanie prietoku chladiacej vody pomocou PLC v reálnom{0}}čase, vysokonapäťová{1}}spätná väzba, pneumatický tlak a integrita tesnenia dverí.

 

Konfigurácia vákuového systému


Vákuový podružný-okruh je navrhnutý pre rýchle cyklovanie a nízky základný tlak, aby sa minimalizovalo zabudovanie zvyškového plynu (H2O, O2, N2) do rastúcich filmov:


Vysoké{0}}vákuové čerpadlo:Turbo-molekulárne čerpadlo s rýchlosťou 1 200 l/s podporované dvojstupňovým- rotačným lopatkovým čerpadlom (alebo konfiguráciou suchého špirálového čerpadla na zabezpečenie súladu s čistými priestormi).


Izolačný ventil:Pneumaticky ovládaný posúvač s vysokou{0}}vodivosťou, ktorý izoluje komoru počas zaťažovacích operácií.


Meranie vákua:Kombinované ionizačné meradlá Pirani a Cold Cathode pokrývajúce nepretržitý rozsah od atmosféry do 10^-6 Pa.

 

Filmové materiály a substráty

 

Kompatibilné zdroje odparovania

Oxidy a dielektrika:Si02, Ti02, Ta205, Al203, Hf02

Čisté kovy:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Ni

Polovodiče a vodiče:Si, Ge, ITO (oxid india a cínu)

 

Aplikácie


Filtre optického rušenia:Viacvrstvové vrstvenie s vysokým-a nízkym{1}}indexom-pre úzkopásmové filtre a laserové zrkadlá-.


Výroba polovodičového zariadenia:Vytváranie ohmického kontaktu, ukladanie oxidu hradla a vrstvy kovových zárodkov.


Výskum OLED a displeja:Nanášanie na tenkú kovovú katódu a testy viac{0}}vrstvovej organickej/anorganickej pasivácie.


Tvrdé žiaruvzdorné nátery:Ochranné vrstvy-odolné voči opotrebovaniu pre mechanické a letecké komponenty.

 

Prispôsobenie


Rozšírenie komory:Rozšírené výšky nádob alebo pravouhlé geometrie prispôsobené na integráciu klastrových nástrojov.


Integrácia zdroja:Súbežné zdroje tepelného odparovania (odporové člny) kombinované s delami s elektrónovým lúčom.


Iónové-asistované ukladanie (IAD):Integrácia koncového-Hallovho alebo Kaufmanovho iónového zdroja na zhusťovanie filmu a ladenie stresu.


Softvérová architektúra:Programovanie receptúr PLC/HMI v súlade s automatizačnými rámcami Siemens S7 alebo Beckhoff.

 

Kontrola kvality


Testovanie úniku hélia hmotnostným spektrometrom:Každý komorový zvar je pred integráciou testovaný na prah odmietnutia < 1 x 10^-9 Pa·m3/s.


Elektrická zhoda:Testy odolnosti dielektrika pri vysokom napätí a overenie kontinuity uzemnenia podľa smerníc CE/UL.


Továrenské akceptačné testovanie (FAT):72-hodinový nepretržitý test na sucho-test zaznamenávanie kriviek základného tlaku, opakovateľnosť zametania e-lúčom a časy odozvy blokovania. Skúšobná dokumentácia dodávaná s jednotkou.

 

Inštalácia a technická podpora


Uvedenie lokality do prevádzky:Továrenskí-certifikovaní inžinieri riadia mechanické zarovnanie, overenie netesnosti vákua, dohľad nad pripojením siete a počiatočné kalibrácie.


Technické školenie:3-dňové školenie o prevádzke a údržbe na mieste týkajúce sa výmeny vlákna, prestavby vákuového ventilu a úpravy receptov.


Výstupy dokumentácie:Kompletné technické viazače vrátane schém P&ID, schém elektrického zapojenia, záložných súborov PLC a položiek náhradných dielov.

 

Často kladené otázky

 

Otázka: Aká je prevádzková životnosť e-volfrámového vlákna v pištoli a ako prebieha jeho údržba?

A: Pri štandardnom pracovnom tlaku (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.

Otázka: Ako systém zabraňuje pľuvaniu počas usadzovania oxidu?

Odpoveď: Digitálny generátor rozmietania distribuuje elektrónovú energiu cez vypočítanú rastrovú matricu na oxidovej pelete. To eliminuje lokálne prehriatie, zabraňuje výbušnému varu a potláča vyvrhovanie mikro-kvapôčok.

Otázka: Aké infraštruktúry sú povinné na mieste inštalácie?

A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 L/min, teplota 18 stupňov až 25 stupňov .
Elektrická sieť: 3-fázová, 380 V ± 10 %, 50/60 Hz (alebo z výroby nakonfigurovaná podľa regionálnych noriem).
Stlačený vzduch: 0,5 MPa až 0,7 MPa suchý vzduch pre pneumatické pohony ventilov.

Otázka: Je vzdialený diagnostický prístup integrovaný do riadiaceho systému?

A: Áno. Izolovaný ethernetový port podporuje zabezpečené pripojenie VPN pre vzdialené načítanie denníka PLC a riešenie problémov so softvérom našim inžinierskym tímom.

 

Populárne Tagy: Tenkovrstvové zariadenia na odparovanie elektrónovým lúčom, Čína výrobcovia zariadení na odparovanie elektrónového lúča, dodávatelia, továreň

Zaslať požiadavku
Kontaktujte násak máte nejakú otázku

Môžete nás kontaktovať telefonicky, e-mailom alebo online formulárom nižšie. Náš špecialista vás bude čoskoro kontaktovať.

Kontaktujte teraz!