Prehľad produktov
Tenkovrstvové zariadenie IAE-série s iónovým{1}}asistovaným odparovaním integruje fyzikálne nanášanie pár (PVD) s bombardovaním iónovým lúčom v reálnom čase-. Nasmerovaním energetických iónov na substrát počas vyparovania tepelným alebo elektrónovým -lúčom systém prenáša hybnosť na kondenzačné adatómy, čím reštrukturalizuje mikroštruktúru rastúceho filmu.
Tento prenos kinetickej energie eliminuje stĺpcové dutiny, potláča absorpciu vlhkosti a blokuje index lomu proti zmenám okolitej vlhkosti. Platforma, vytvorená pre nepretržitú viac{1}}smennú prevádzku na optických a polovodičových výrobných linkách, spracováva substráty od-precíznej laserovej optiky až po kremíkové doštičky.
-
![Iónové{0}}zariadenia na vákuové odparovanie]()
Iónové{0}}zariadenia na vákuové odparovanieIónový-asistovaný vákuový odparovací systém integruje vysoko{1}}vákuové tepelné alebo elektrónové{2}}vyparovacie zdroje s iónovým zdrojom Kaufman-alebo End{4}}Hallovho typu. Bombardovaním...Zobraziť viac -
![Iónovým-systémom nanášania tenkých vrstiev]()
Iónovým-systémom nanášania tenkých vrstievSystém iónového-asistovaného nanášania tenkých vrstiev integruje viac-vreckový elektrónový-lúč/tepelné vyparovanie s vysokovýkonným-zdrojom iónov typu End-Hall alebo Kaufman-. Počas fyzikálneho...Zobraziť viac -
![Zariadenie na odparovanie s pomocou iónového lúča]()
Zariadenie na odparovanie s pomocou iónového lúčaSystém IBAE kombinuje elektrónový-lúč alebo tepelné vyparovanie s integrovaným široko{1}}lúčovým iónovým zdrojom. Simultánne bombardovanie iónmi počas rastu filmu prenáša kinetickú energiu na...Zobraziť viac -
![Zariadenia na nanášanie tenkých vrstiev-iónov]()
Zariadenia na nanášanie tenkých vrstiev-iónovZariadenie IA-Series Ion-Asisted Thin Film Deposition Equipment integruje tepelné odparovanie elektrónovým-lúčom s Kaufmanovým alebo End{3}}Hallovým iónovým zdrojom. Bombardovanie energetickými...Zobraziť viac -
![Tenkovrstvový systém-asistovaného odparovania iónov]()
Tenkovrstvový systém-asistovaného odparovania iónovTenkovrstvový systém-asistovaného odparovania iónmi (IAE) integruje fyzikálne nanášanie pár (PVD) s bombardovaním energetickým iónovým lúčom. Počas tepelného odparovania alebo odparovania...Zobraziť viac -
![Zariadenie na tenkovrstvové-odparovanie pomocou iónov]()
Zariadenie na tenkovrstvové-odparovanie pomocou iónovPriemyselný{0}}systém iónového{1}}asistovaného odparovania (IAE) integrujúci viac-vreckové vyparovanie elektrónovým-lúčom so zdrojom energetického iónového lúča (konfigurácia End-Hall alebo...Zobraziť viac
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Špecifikácia |
|
Konečný základný tlak |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
|
Zdroje odparovania |
Viac{0}}vrecková E-lúčová pištoľ (4 × 15 cm3 až 40 cm3) a odporové tepelné zdroje |
|
Typ zdroja iónov |
Iónový zdroj typu Gridless End-Hall/Kaufman- (napätie lúča: 50 – 1500 V, iónový prúd: 0,1 – 3 A) |
|
Kontrola hrúbky filmu |
Mikrováhy z kremenného kryštálu (QCM) + optický monitorovací systém (OMS), presnosť ± 0,1 nm |
|
Upevnenie substrátu |
Planétový rotačný prípravok, polomer kopule prispôsobený geometrii substrátu |
|
Vyhrievanie substrátu |
Pole sálavého ohrievača až do 350 stupňov s rovnomernosťou PID ± 2 stupne |
|
Riadiaca architektúra |
PLC + priemyselné PC, automatizované vykonávanie receptov, zaznamenávanie údajov v súlade so SECS/GEM |
Proces iónového-asistovaného depozície
Tvorba pár:
Materiál sa odparuje z téglika s elektrónovým lúčom alebo termálnej lode pri kontrolovaných rýchlostiach nanášania (0,1 – 2,0 nm/s).
01
Prenos hybnosti:
Energetické ióny (Ar⁺, O⁺) bombardujú povrch substrátu súčasne s prichádzajúcim tokom pár z E-lúča alebo tepelného zdroja.
02
Modifikácia mikroštruktúry:
Vplyv iónov zvyšuje pohyblivosť povrchu adatomu, zabraňuje rastu stĺpcových zŕn a dosahuje takmer{0}}sypnú hustotu (hustota balenia > 99 %).
03
Korekcia stechiometrie:
Reaktívna iónová asistencia (O₂) zaisťuje úplnú oxidáciu sub{0}}oxidov vo filmoch oxidov kovov (napr. Ta₂O₅, Nb₂O₅, SiO₂), čím sa eliminujú absorpčné pásy v UV-NIR spektre.
04
Filmové materiály
Oxidy:
Si02, Ta205, Ti02, Nb205, HfO2 (vysoká stabilita indexu lomu pre optické filtre).
Fluoridy:
MgF₂, LaF3 (vrstvy s nízkym indexom lomu pre širokopásmové AR povlaky).
Kovy:
Al, Ag, Au, Ti (Adhézne vrstvy a kovové reflektory).
Aplikácie
Laser a presná optika:
Pásmové filtre, dichroické zrkadlá a laserové ochranné povlaky vyžadujúce vysoký prah laserom -indukovaného poškodenia (LIDT) a nulový spektrálny posun pri tepelnom namáhaní.
Krycie sklo LiDAR:
Odolné anti{0}}reflexné (AR) a anti-nešpinivé tenké vrstvy odolné voči drsným vonkajším vplyvom počasia.
Balenie polovodičov:
Vrstvy{0}}zapuzdrenia proti vlhkosti a kovové kontaktné podložky nanesené pri nízkych teplotách substrátu.
Biomedicínske senzory:
Biokompatibilné optické interferenčné povlaky pre diagnostické mikrofluidné čipy.
Prispôsobenie
Komory a vnútorné usporiadanie sú navrhnuté podľa špecifických výrobných stôp a procesných požiadaviek:
Rozmery komory:
Škálovateľné z R=600 mm R&D jednotiek na R=1200 mm vysokokapacitné-výrobné systémy.
Čerpacie balíčky:
Konfigurovateľné s turbomolekulárnymi čerpadlami Maglev, kryopumpami a podpornými vedeniami Rootsových dúchadiel na základe požiadaviek plynového zaťaženia.
Integrácia zdroja:
Dvojité{0}}konfigurácie zdrojov iónov alebo ko{1}}nastavenia na nanášanie pre zložité zliatinové a viacvrstvové filmy s gradientom-.
Úroveň automatizácie:
Integrácia s automatizovanými systémami prenosu substrátu do čistých priestorov (EFEM / Vacuum cluster tools).
Kontrola kvality
Detekcia úniku:
Každá vákuová komora je testovaná na netesnosť hélia-pomocou hmotnostného spektrometra (miera úniku < 1,0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s).
Sledovateľnosť komponentov:
Vákuové ventily, regulátory hmotnostného prietoku (MFC) a napájacie zdroje od kvalifikovaných priemyselných značiek Tier-1 (MKS, Inficon, DPH).
Továrenské akceptačné testovanie (FAT):
Spustite-testy overujúce základný tlak, krivku čerpania, stabilitu zdroja a 24{2}}hodinovú nepretržitú výdrž prázdnej komory pred odoslaním.
Metrologické overenie:
Vzorky overené spektrofotometrom (priepustnosť/odrazivosť) a mikroskopiou atómovej sily (drsnosť povrchu Ra < 0,5 nm).
Inštalácia a technická podpora
Sprievodca prípravou miesta:
Pred dodávkou sú zabezpečené komplexné požiadavky na verejné služby (prietok/tlak chladiacej vody, stlačený vzduch v čistých priestoroch, rozvod energie, odvetrávanie).
Uvedenie do prevádzky na kľúč:
Technickí pracovníci v teréne sa starajú o mechanickú montáž, vákuové vypaľovanie-, kalibráciu iónovým lúčom a odhlasovanie receptu počiatočného procesu-na-mieste.
Školenie operátora:
Štruktúrované praktické{0}}školenia týkajúce sa bežnej údržby, bezpečnosti vysávania, prevádzky softvéru a riešenia problémov.
Podpora životného cyklu:
Vzdialené diagnostické rozhranie pre rýchle riešenie problémov so softvérom; regionálne zásoby kriticky opotrebovaných položiek (vlákna, tégliky, štíty) expedované do 48 hodín.
FAQ
Sme dobre-známi ako jeden z popredných výrobcov a dodávateľov zariadení na tenkovrstvové odparovanie pomocou iónov-v Číne. Ak sa chystáte kúpiť prispôsobené iónové-zariadenie na tenkovrstvové odparovanie vyrobené v Číne, uvítajte cenník z našej továrne. Pre cenovú konzultáciu nás kontaktujte.
stabilné tenké filmové vybavenie, Tenké filmové vybavenie na ukladanie údajov, tenké filmové vybavenie pre aplikácie na výrobu fotoniky
