Systém IBAE kombinuje elektrónový-lúč alebo tepelné vyparovanie s integrovaným široko{1}}lúčovým iónovým zdrojom. Simultánne bombardovanie iónmi počas rastu filmu prenáša kinetickú energiu na kondenzačné adatómy, eliminuje stĺpcové mikroštruktúry a vytvára tenké filmy s takmer -objemovou-hustotou s minimálnym spektrálnym posunom vyvolaným vlhkosťou-.
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Špecifikácia |
|
Základný tlak |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Pracovný tlak |
1,0 x 10^(-1) až 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
Typ zdroja iónov |
Gridless End-Hala / Kaufmannov iónový zdroj |
|
Energia iónového lúča |
50 eV až 1500 eV (uzavretá-slučka stabilizovaná) |
|
Hustota prúdu iónového lúča |
0 až 2,5 mA/cm^2 |
|
Zdroje odparovania |
Viac-vreckové E-lúčové pištole (4 x 15 ccm až 6 x 40 ccm) / Odporové člny |
|
Držiak substrátu |
Planétové rotačné zariadenie s ohrevom až do 300 ° C |
|
Rovnomernosť hrúbky |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Kontrolný systém |
Siemens S7-1500 PLC + priemyselné PC (Inficon deposition controller) |
Kľúčové vlastnosti
Duálne{0}}bombardovanie:Prenos kinetickej energie zahusťuje filmy pri nízkych teplotách substrátu, čím chráni jemnú optiku a polymérne substráty.
Uzavretá-cyklická stabilizácia iónov:Integrované regulátory hmotnostného toku udržujú konštantný tok iónov počas dlhých výrobných sérií, čím zaisťujú konzistenciu šarží.
Modulárna vákuová komora:Konštrukcia z nehrdzavejúcej ocele 304L s elektro-lešteným vnútrom (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Automatické sekvenovanie:Cykly odčerpávania, usadzovania a odvzdušňovania riadené PLC{0}} minimalizujú prevádzkové odchýlky.
Konfigurácia vákuového systému
Hrubovacie čerpadlá:Suché korienky-bez oleja a rotačné lopatkové čerpadlá.
Vysoká vákuová pumpa:Magneticky levitované turbomolekulárne čerpadlo (1600 l/s).
Meradlá:Kombinované kapacitné manometre Pirani, studená katóda a Baratron.
Ventily:Pneumatické posúvače a rohové ventily s hardvérovým bezpečnostným blokovaním.
Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu
Oxidy:Si02, Ta205, Ti02, Nb205, Al2O3
Fluoridy:MgF2, LaF3
Kovy:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Substráty:Tavený oxid kremičitý, BK7, kremíkové doštičky, germánium, selenid zinku (ZnSe) a tepelne -odolný polyimid.
Aplikácie
Presná optika:Úzkopásmové filtre a DWDM povlaky vyžadujúce stabilné stredové vlnové dĺžky.
Laserová optika:Prahové reflektory s vysokým-poškodením-a anti{2}}reflexné vrstvy.
Polovodiče a fotonika:Dielektrické ochranné vrstvy, pasivácia a optické vlnovody.
Solárna energia:Modifikácia rozhrania priehľadného vodivého oxidu (TCO).
Prispôsobenie
Veľkosť komory:Škálovateľné priemery od 600 mm do 1200 mm.
Rozloženie zdroja:Až tri e{0}}lúčové pištole a viacero tepelných zdrojov na platformu.
In{0}}metrológia na mieste:Širokopásmové optické monitorovanie (BOM) alebo integrácia mikrováhy z kremenného kryštálu (QCM).
automatizácia:Rozhrania pre robotické nakladanie substrátu sú v súlade so štandardmi SEMI.
Kontrola kvality
Detekcia úniku:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na komoru (citlivosť<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Zdroj komponentov:Priemyselné značky Tier-1 (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Továrenská akceptácia (FAT):72-hodinový nepretržitý chod nasucho a overenie náteru na meranie indexu lomu a rovnomernosti pred odoslaním.
Inštalácia a technická podpora
Dokumentácia:Kompletný balík v angličtine vrátane elektrických schém, schém P&ID a zdrojových kódov PLC.
Terénne služby:Inštalácia na kľúč, vákuová kalibrácia a ladenie receptúr aplikačnými inžiniermi.
Diaľková diagnostika:Zabezpečený modul VPN na riešenie problémov so softvérom a procesmi.
FAQ
Otázka: Ako pomoc iónov mení index lomu oxidu?
Odpoveď: Bombardovanie energetickými iónmi vytláča zachytené zvyškové plyny a zahusťuje mikroštruktúru, čím posúva index lomu filmov ako Ta2O5 a TiO2 bližšie k objemovým hodnotám.
Otázka: Aký je typický interval údržby pre zdroj iónov?
Odpoveď: Intervaly údržby sa pohybujú od 150 do 300 hodín spracovania v závislosti od procesných plynov a prevádzkovej hustoty výkonu.
Otázka: Dokáže tento systém riadiť procesy reaktívneho plynu?
A: Áno. Nezávislé regulátory hmotnostného prietoku vstrekujú reaktívne plyny (O2, N2) priamo do zón zdroja iónov a komory, prepojené bezpečnostnými tlakovými spínačmi.
Populárne Tagy: odparovacie zariadenia s pomocou iónového lúča, Čína výrobcovia zariadení na odparovanie s pomocou iónového lúča, dodávatelia, továreň, Tenké filmové vybavenie na ukladanie údajov
