Prehľad produktov
Priemyselné viac{0}}oblúkové zariadenie na iónové pokovovanie navrhnuté na nanášanie tvrdých povlakov, funkčných filmov a dekoratívnych PVD povrchových úprav na presné komponenty. Pomocou vysokoprúdového, nízkonapäťového vákuového oblúkového výboja systém priamo odparuje pevné cieľové materiály (Ti, Cr, Al, Zr). V kombinácii s reaktívnymi plynmi (N2, O2, C2H2) syntetizuje husté nitridy, karbidy a oxidy prechodných kovov priamo na kovové substráty.
Toto riešenie PVD na kľúč, postavené na modulárnej architektúre vákuovej komory, umožňuje rôzne výrobné rozsahy-od dávkového spracovania výskumu a vývoja až po automatizovanú,-inline výrobu s vysokou priepustnosťou. Systém je optimalizovaný pre vysoké cieľové využitie a nízke celkové náklady na vlastníctvo (TCO) v nepretržitých 24/7 priemyselných prostrediach.
-
Viac{0}}oblúkové vákuové nanášacie zariadenieTento viac{0}}oblúkový systém vákuového nanášania využíva technológiu katódového oblúkového iónového pokovovania na nanášanie hustých,-tvrdých povlakov s vysokou priľnavosťou na kovové a-kovové...Zobraziť viac
-
Viac{0}}oblúkový systém nanášania iónovThe Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionizácia pevného...Zobraziť viac
-
Viac{0}}oblúkové PVD zariadenie na tenké vrstvyPriemyselný multi{0}}oblúkový PVD systém využíva fyzikálne nanášanie pár katódovým oblúkom s vysokou-ionizáciou na nanášanie hustých stechiometrických tvrdých povlakov (ako sú TiN, TiAlN, CrN a...Zobraziť viac
-
Viac{0}}oblúkové zariadenie na nanášanie iónovPriemyselný viac{0}}oblúkový iónový depozičný systém vytvára husté, vysoko{1}}adhézne tenké filmy prostredníctvom vysoko-prúdového a nízkonapäťového-odparovania katódovým oblúkom. Pevné terčové...Zobraziť viac
-
Multi-oblúkový iónový tenký filmový systémPriemyselný multi{0}}oblúkový iónový tenký filmový systém využíva katódové oblúkové odparovanie na nanášanie hustých, vysoko{1}}adhéznych keramických a kovových povlakov na kovové a zliatinové...Zobraziť viac
-
Viac{0}}oblúkové iónové zariadenie na tenké filmyTento viac{0}}oblúkový systém iónového pokovovania využíva katódové oblúkové odparovanie na nanášanie hustých, vysoko{1}}adhéznych tvrdých povlakov a funkčných tenkých vrstiev. Zapálením...Zobraziť viac
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Rozsah špecifikácií |
Jednotka / Poznámka |
|
Rozmery komory |
Ф600 x 600 až Ф1500 x 1800 |
mm (Vlastné vertikálne alebo horizontálne konfigurácie) |
|
Konečný vákuový tlak |
<= 5.0 x 10^-4 |
Pa (suché čerpadlo + turbo-molekulárna / súprava na difúziu oleja) |
|
Zdroje katódového oblúka |
4 až 16 jednotiek |
Zdroje elektromagnetického riadeného alebo filtrovaného oblúka (FCA) |
|
Substrate Bias Power |
0 až -1000 |
V (pokročilé možnosti pulzného jednosmerného / MF predpätia) |
|
Teplota vykurovania |
Teplota v miestnosti do 600 |
C (PID riadené sálavé ohrievače) |
|
Rovnomernosť depozície |
<= +/- 5% |
Merané pomocou XRF cez efektívnu pracovnú zónu |
|
Kontrolný systém |
PLC + priemyselné PC |
Automatizované vykonávanie receptov, zaznamenávanie údajov SCADA |
|
Bezpečnosť a súlad |
CE, ISO 9001 |
Elektrické kryty v súlade s UL-k dispozícii na požiadanie |
Sekvencia fyzického nanášania pár funguje na prísnom, uzavretom{0}}automatizovanom pracovnom postupe, aby sa zabezpečila opakovateľnosť jednotlivých dávok-do{2}}:
Evakuácia a odplynenie:
Vákuová komora sa čerpá nadol na základný tlak<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.
Plazmové leptanie (bombardovanie):
Zavádza sa plynný argón. Na držiak substrátu sa aplikuje vysoká záporná odchýlka, čím sa generujú ióny Ar, ktoré bombardujú povrch, aby rozprášili prirodzené oxidy a mikro-kontaminanty.
Oblúkové odparovanie a ionizácia:
Jednosmerný oblúkový prúd naráža na pevnú kovovú katódu. Lokálna katódová škvrna dosahuje extrémnu hustotu energie a okamžite odparuje cieľový materiál na prúd plazmy s vysokou -hustotou (miera ionizácie > 80 %).
Reaktívna depozícia:
Reaktívne plyny sa vstrekujú do toku plazmy pri presne kontrolovaných parciálnych tlakoch prostredníctvom regulátorov hmotnostného toku (MFC), čím sa vytvárajú stechiometrické zložené filmy na rotujúcich substrátoch.
Chladenie a vetranie:
Riadené chladenie prebieha pod ochranou inertným plynom pred odvzdušnením komory, čím sa bráni oxidácii čerstvo natretých dielov.
Filmové materiály a vlastnosti povlakov
Systém podporuje usporiadanie viacerých{0}}kovových katód, ktoré umožňujú jednovrstvové, viacvrstvové, nano{1}}kompozitné a gradientové filmové architektúry:

TiN (nitrid titánu):
Štandardný zlatý povlak; tvrdosť 2200–2400 HV; koeficient trenia 0,4. Primárne použitie: všeobecné rezné nástroje a mechanické diely podliehajúce opotrebovaniu.

TiAlN (nitrid titán-hlinitý):
odolnosť proti oxidácii pri vysokej{0} teplote až do 850 C; tvrdosť 3000–3300 HV. Primárne použitie: vysokorýchlostné-obrábacie vložky a ventily motora.

CrN / CrAlN (nitrid chrómu):
Vynikajúca odolnosť proti korózii a nízke vnútorné napätie; proti-zachyteniu neželezných{1}}kovov. Primárne použitie: formovacie formy, piestne krúžky a súčasti textilných strojov.

ZrN / TiCN:
Nízka drsnosť povrchu (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.
Aplikácie
Presné rezné nástroje:
Stopkové frézy, vrtáky, odvalovacie frézy a vymeniteľné doštičky vyžadujúce predĺženú životnosť nástroja pri vysokom tepelnom zaťažení.
01
Automobilové hnacie ústrojenstvo:
Piestne čapy, zdvihátka, komponenty vstrekovania paliva a povrchy ozubených kolies vyžadujúce znížené medzné trenie a odolnosť proti odieraniu.
02
Formy a matrice:
Vstrekovacie formy na plasty, lisovacie formy a vložky na odlievanie-do formy, ktoré si vyžadujú odolnosť voči opotrebovaniu lepidlom a tepelnej únave.
03
Letecké komponenty:
Lopatky turbíny a titánové spojovacie prvky fungujúce v agresívnom korozívnom a vysoko{0}}namáhanom prostredí.
04
Prispôsobenie a konfigurácia systému
Štandardné položky katalógu sa len zriedka dokonale hodia na továrenské rozloženia. Konfigurácie zariadení sú prispôsobené na základe špecifickej geometrie komponentov, cieľových časov cyklu a obmedzení zariadenia:
Geometria komory:
Osemhranné alebo valcové komory z nehrdzavejúcej ocele (SUS304/SUS316L) s dvojitým-vodným chladením-plášťom.
Rozloženie zdroja:
Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).
Upevnenie podkladu:
Planetárne rotačné (3-osové) alebo jednorotačné mechanizmy poháňané magnetickými kvapalinovými priechodkami na zaručenie rovnomerného pokrytia povlakom na zložitých 3D geometriách.
Možnosti čerpacieho zásobníka:
Rootsove dúchadlá, rotačné lopatkové čerpadlá, kryogénne čerpadlá alebo turbomolekulárne čerpadlá nakonfigurované tak, aby spĺňali prísne -doby cyklu odčerpania.
Protokoly kontroly kvality a testovania
Každý stroj sa pred odoslaním podrobuje prísnemu testovaniu prevzatia v továrni (FAT), ktoré je zdokumentované na kontrolu kupujúcim:
01
Test integrity vákua:
Detekcia úniku hélia pomocou hmotnostnej spektrometrie (miera úniku<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).
02
Elektrická bezpečnosť a spaľovanie-v:
72-hodinový nepretržitý chod napájacích zdrojov, blokovania vodného chladenia a automatizačnej logiky PLC.
03
Overenie náteru (vlastné-laboratórium):
Vzorky testované prostredníctvom Calo{0}}testu (hrúbka filmu), Rockwellovho vtláčania (adhézna sila) a nanoindentácie (tvrdosť).

Inštalácia, uvedenie do prevádzky a technická podpora
Pokyny na prípravu lokality:
Poskytli sa podrobné výkresy rozloženia rozvodov pre prietok/tlak chladiacej vody, stlačený vzduch, odsávacie vetranie a požiadavky na elektrické prípojnice.
SAT a uvedenie do prevádzky:
-Inštaláciu na mieste (Site Acceptance Testing), vákuovú kalibráciu a odovzdanie základnej receptúry vykonávali starší procesní inžinieri PVD.
Procesné školenie:
Praktické-školenie operátora týkajúce sa plánov výmeny katód, preventívnej údržby vákua, riešenia problémov a optimalizácie základných receptov.
Podpora náhradných dielov:
Kritické opotrebiteľné komponenty (katódy, štíty, izolátory a tesnenia) sú na sklade na globálne odoslanie do 48 hodín.
Často kladené otázky
Sme dobre-známi ako jeden z popredných-výrobcov a dodávateľov zariadení s tenkým filmom s iónovým oblúkom v Číne. Ak sa chystáte kúpiť prispôsobené multi-oblúkové iónové tenkovrstvové zariadenie vyrobené v Číne, uvítajte cenník z našej továrne. Pre cenovú konzultáciu nás kontaktujte.
tenké filmové vybavenie pre MEMS, Tenké filmové vybavenie pre senzory a ovládače