Prehľad produktov

 

Priemyselné viac{0}}oblúkové zariadenie na iónové pokovovanie navrhnuté na nanášanie tvrdých povlakov, funkčných filmov a dekoratívnych PVD povrchových úprav na presné komponenty. Pomocou vysokoprúdového, nízkonapäťového vákuového oblúkového výboja systém priamo odparuje pevné cieľové materiály (Ti, Cr, Al, Zr). V kombinácii s reaktívnymi plynmi (N2, O2, C2H2) syntetizuje husté nitridy, karbidy a oxidy prechodných kovov priamo na kovové substráty.


Toto riešenie PVD na kľúč, postavené na modulárnej architektúre vákuovej komory, umožňuje rôzne výrobné rozsahy-od dávkového spracovania výskumu a vývoja až po automatizovanú,-inline výrobu s vysokou priepustnosťou. Systém je optimalizovaný pre vysoké cieľové využitie a nízke celkové náklady na vlastníctvo (TCO) v nepretržitých 24/7 priemyselných prostrediach.

 
 
Technické špecifikácie

 

Parameter

Rozsah špecifikácií

Jednotka / Poznámka

Rozmery komory

Ф600 x 600 až Ф1500 x 1800

mm (Vlastné vertikálne alebo horizontálne konfigurácie)

Konečný vákuový tlak

<= 5.0 x 10^-4

Pa (suché čerpadlo + turbo-molekulárna / súprava na difúziu oleja)

Zdroje katódového oblúka

4 až 16 jednotiek

Zdroje elektromagnetického riadeného alebo filtrovaného oblúka (FCA)

Substrate Bias Power

0 až -1000

V (pokročilé možnosti pulzného jednosmerného / MF predpätia)

Teplota vykurovania

Teplota v miestnosti do 600

C (PID riadené sálavé ohrievače)

Rovnomernosť depozície

<= +/- 5%

Merané pomocou XRF cez efektívnu pracovnú zónu

Kontrolný systém

PLC + priemyselné PC

Automatizované vykonávanie receptov, zaznamenávanie údajov SCADA

Bezpečnosť a súlad

CE, ISO 9001

Elektrické kryty v súlade s UL-k dispozícii na požiadanie

 

 

Viac{0}}oblúkový proces nanášania iónov

Sekvencia fyzického nanášania pár funguje na prísnom, uzavretom{0}}automatizovanom pracovnom postupe, aby sa zabezpečila opakovateľnosť jednotlivých dávok-do{2}}:


Evakuácia a odplynenie:

Vákuová komora sa čerpá nadol na základný tlak<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


Plazmové leptanie (bombardovanie):

Zavádza sa plynný argón. Na držiak substrátu sa aplikuje vysoká záporná odchýlka, čím sa generujú ióny Ar, ktoré bombardujú povrch, aby rozprášili prirodzené oxidy a mikro-kontaminanty.

Oblúkové odparovanie a ionizácia:

Jednosmerný oblúkový prúd naráža na pevnú kovovú katódu. Lokálna katódová škvrna dosahuje extrémnu hustotu energie a okamžite odparuje cieľový materiál na prúd plazmy s vysokou -hustotou (miera ionizácie > 80 %).

Reaktívna depozícia:

Reaktívne plyny sa vstrekujú do toku plazmy pri presne kontrolovaných parciálnych tlakoch prostredníctvom regulátorov hmotnostného toku (MFC), čím sa vytvárajú stechiometrické zložené filmy na rotujúcich substrátoch.

Chladenie a vetranie:

Riadené chladenie prebieha pod ochranou inertným plynom pred odvzdušnením komory, čím sa bráni oxidácii čerstvo natretých dielov.

 

Filmové materiály a vlastnosti povlakov

Systém podporuje usporiadanie viacerých{0}}kovových katód, ktoré umožňujú jednovrstvové, viacvrstvové, nano{1}}kompozitné a gradientové filmové architektúry:

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN (nitrid titánu):

Štandardný zlatý povlak; tvrdosť 2200–2400 HV; koeficient trenia 0,4. Primárne použitie: všeobecné rezné nástroje a mechanické diely podliehajúce opotrebovaniu.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN (nitrid titán-hlinitý):

odolnosť proti oxidácii pri vysokej{0} teplote až do 850 C; tvrdosť 3000–3300 HV. Primárne použitie: vysokorýchlostné-obrábacie vložky a ventily motora.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN (nitrid chrómu):

Vynikajúca odolnosť proti korózii a nízke vnútorné napätie; proti-zachyteniu neželezných{1}}kovov. Primárne použitie: formovacie formy, piestne krúžky a súčasti textilných strojov.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN / TiCN:

Nízka drsnosť povrchu (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

Aplikácie

 

Presné rezné nástroje:

Stopkové frézy, vrtáky, odvalovacie frézy a vymeniteľné doštičky vyžadujúce predĺženú životnosť nástroja pri vysokom tepelnom zaťažení.

01

Automobilové hnacie ústrojenstvo:

Piestne čapy, zdvihátka, komponenty vstrekovania paliva a povrchy ozubených kolies vyžadujúce znížené medzné trenie a odolnosť proti odieraniu.

02

Formy a matrice:

Vstrekovacie formy na plasty, lisovacie formy a vložky na odlievanie-do formy, ktoré si vyžadujú odolnosť voči opotrebovaniu lepidlom a tepelnej únave.

03

Letecké komponenty:

Lopatky turbíny a titánové spojovacie prvky fungujúce v agresívnom korozívnom a vysoko{0}}namáhanom prostredí.

04

 

Prispôsobenie a konfigurácia systému
 

Štandardné položky katalógu sa len zriedka dokonale hodia na továrenské rozloženia. Konfigurácie zariadení sú prispôsobené na základe špecifickej geometrie komponentov, cieľových časov cyklu a obmedzení zariadenia:

Geometria komory:

Osemhranné alebo valcové komory z nehrdzavejúcej ocele (SUS304/SUS316L) s dvojitým-vodným chladením-plášťom.

Rozloženie zdroja:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Upevnenie podkladu:

Planetárne rotačné (3-osové) alebo jednorotačné mechanizmy poháňané magnetickými kvapalinovými priechodkami na zaručenie rovnomerného pokrytia povlakom na zložitých 3D geometriách.

Možnosti čerpacieho zásobníka:

Rootsove dúchadlá, rotačné lopatkové čerpadlá, kryogénne čerpadlá alebo turbomolekulárne čerpadlá nakonfigurované tak, aby spĺňali prísne -doby cyklu odčerpania.

 

Protokoly kontroly kvality a testovania

Každý stroj sa pred odoslaním podrobuje prísnemu testovaniu prevzatia v továrni (FAT), ktoré je zdokumentované na kontrolu kupujúcim:

01

Test integrity vákua:

Detekcia úniku hélia pomocou hmotnostnej spektrometrie (miera úniku<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

Elektrická bezpečnosť a spaľovanie-v:

72-hodinový nepretržitý chod napájacích zdrojov, blokovania vodného chladenia a automatizačnej logiky PLC.

03

Overenie náteru (vlastné-laboratórium):

Vzorky testované prostredníctvom Calo{0}}testu (hrúbka filmu), Rockwellovho vtláčania (adhézna sila) a nanoindentácie (tvrdosť).

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

Inštalácia, uvedenie do prevádzky a technická podpora

Pokyny na prípravu lokality:

Poskytli sa podrobné výkresy rozloženia rozvodov pre prietok/tlak chladiacej vody, stlačený vzduch, odsávacie vetranie a požiadavky na elektrické prípojnice.

SAT a uvedenie do prevádzky:

-Inštaláciu na mieste (Site Acceptance Testing), vákuovú kalibráciu a odovzdanie základnej receptúry vykonávali starší procesní inžinieri PVD.

Procesné školenie:

Praktické-školenie operátora týkajúce sa plánov výmeny katód, preventívnej údržby vákua, riešenia problémov a optimalizácie základných receptov.

Podpora náhradných dielov:

Kritické opotrebiteľné komponenty (katódy, štíty, izolátory a tesnenia) sú na sklade na globálne odoslanie do 48 hodín.

 

 

 

Často kladené otázky

 

 

Otázka: Ako potlačíte makročastice (kvapôčky), ktoré sú súčasťou viac-oblúkového iónového pokovovania?

Odpoveď: Na stabilizáciu katódových škvŕn a zníženie emisií kvapiek využívame nastaviteľné magnetické polia riadenia v kombinácii s optimalizovanými krivkami oblúkového prúdu. Pre ultra-hladké optické alebo medicínske aplikácie je možné systém integrovať so zdrojmi FCA (Filtered Cathodic Arc).

Otázka: Aký je typický čas obrátky pre vlastnú konfiguráciu komory?

Odpoveď: Štandardné konfigurácie sa dodávajú do 16 až 20 týždňov. Plne prispôsobené rozmery komory, automatizované robotické nakladacie rozhrania alebo špecializované kryogénne čerpacie systémy vyžadujú 24 až 30 týždňov od schválenia výkresu P&ID.

Otázka: Môže systém uložiť viacero receptúr na povrchovú úpravu pre rôzne rodiny dielov?

A: Áno. Priemyselný riadiaci systém PLC uchováva až 100 individuálnych procesných receptúr. To umožňuje automatizované-spustenie jedným dotykom pomocou regulátorov prietoku plynu (MFC), stupňovanie predpätia, sekvenovanie oblúkového prúdu a špecifické časy krokov.

Sme dobre-známi ako jeden z popredných-výrobcov a dodávateľov zariadení s tenkým filmom s iónovým oblúkom v Číne. Ak sa chystáte kúpiť prispôsobené multi-oblúkové iónové tenkovrstvové zariadenie vyrobené v Číne, uvítajte cenník z našej továrne. Pre cenovú konzultáciu nás kontaktujte.

tenké filmové vybavenie pre MEMS, Tenké filmové vybavenie pre senzory a ovládače
Zaslať požiadavku
Kontaktujte násak máte nejakú otázku

Môžete nás kontaktovať telefonicky, e-mailom alebo online formulárom nižšie. Náš špecialista vás bude čoskoro kontaktovať.

Kontaktujte teraz!