Viac{0}}oblúkový systém nanášania iónov

Viac{0}}oblúkový systém nanášania iónov

Podrobnosti
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionizácia pevného katódového materiálu, vháňajúca vysokoenergetické iónové bombardovanie do rozhrania substrátu pre lepšiu priľnavosť filmu v porovnaní s magnetrónovým naprašovaním.
Klasifikácia výrobku
Viac{0}}oblúkové iónové zariadenie na tenké filmy
 
Zaslať požiadavku
Popis
Technické parametre

The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionizácia pevného katódového materiálu, vháňajúca vysokoenergetické iónové bombardovanie do rozhrania substrátu pre lepšiu priľnavosť filmu v porovnaní s magnetrónovým naprašovaním.


Dvojstenná -nehrdzavejúca- oceľová vákuová komora obsahuje modulárne oblúkové zdroje a PLC-riadený automatizovaný cyklus, ktorý riadi pumpovanie-nadol,-in situ plazmové leptanie, dodávanie reaktívneho plynu a viac{5}}vrstvové nanášanie.

 

Technické špecifikácie

 

Parameter

Špecifikácia

Veľkosť komory

Prispôsobený vnútorný priemer (Phi 800 mm - Phi 1500 mm)

Materiál nádoby

Dvojstenný SUS304 / SUS316L s vnútornými chladiacimi kanálmi

Základný tlak

<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped)

Pump{0}}Čas výpadku

Atmosféra do 6,0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty)

Oblúkové katódy

4 až 12 pravouhlých alebo kruhových prameňov

Napájacie zdroje

Jednosmerný oblúk (0-200 A) a pulzné predpätie (0-3000 V)

Rotácia substrátu

Viac{0}}planetárne/jednoosové{1}}otáčanie prostredníctvom priechodky s magnetickou kvapalinou

Kontrolný systém

Siemens S7-1500 PLC + IPC s automatizovanými receptúrami

Požiadavky na úžitkové vlastnosti

Chladiaca voda (18-25 C, 0,2-0,4 MPa); Stlačený vzduch (0,5-0,7 MPa)

 

Kľúčové vlastnosti


Vysoká miera ionizácie:Minimalizuje delamináciu filmu prostredníctvom bombardovania hustými iónmi.


Stabilita riadeného oblúka:Programovateľné spúšťače a regulácia prúdu v uzavretej -slučke potláčajú tvorbu makročastíc (kvapôčok) a zabraňujú otrave cieľa reaktívnymi plynmi (N2, C2H2, O2).


Zdroje modulárneho oblúka:Bočné umiestnenie a umiestnenie dverí sa prispôsobujú zložitým geometriám 3D nástrojov pre rovnomerné rozloženie hrúbky.


Pulzné predpätie substrátu:Synchronizované napäťové impulzy prispôsobujú zvyškové napätie, zjemnenie zrna a mikrotvrdosť.


Fázy rotácie v ťažkých{0}}zaťaženiach:Planétové svietidlá podporujú dávkové zaťaženie až 500 kg pri vysokom tepelnom a vákuovom zaťažení.

 

Konfigurácia vákuového systému


Hrubovanie a korene:Viac{0}}stupňové suché skrutkové čerpadlá spárované s Rootsovými dúchadlami zabraňujú kontaminácii uhľovodíkmi až po prechodné tlaky.


Vysoké vákuum:Turbomolekulárne alebo difúzne pumpy udržujú ultra{0}}vysoký základný tlak.


Zachytenie a meranie:Voliteľné vymrazovače kvapalného dusíka; široký-rozsah kombinovaných meradiel Pirani/studená katóda.

 

Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu


Katódové ciele:Čisté kovy (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) a zliatinové terče (TiAl, TiSi, CrAl, WC{0}}Co).


Materiály podkladu:Rýchlorezná oceľ (HSS), karbidové doštičky, nástrojové ocele na prácu za studena/za tepla (SKD11, H13), nehrdzavejúca oceľ a zliatiny titánu.


Pred-liečba:Vodné ultrazvukové čistenie, po ktorom nasleduje in situ Ar+ alebo leptanie kovovými iónmi na odstránenie prirodzených oxidov.

 

Aplikácie


Nástroje na rezanie:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >Tvrdosť povrchu 3000 HV a odolnosť proti oxidácii.


Formy a matrice:Ochranné vrstvy na vstrekovacích formách a lisovacích nástrojoch zabraňujúce zadretiu a abrazívnemu opotrebovaniu.


Automobilový priemysel:Povlaky DLC a CrN na piestnych krúžkoch, ozubených kolesách a čapoch vstrekovačov na zníženie koeficientov trenia.


Lekárske pomôcky:Biokompatibilné povlaky TiN/TiCN na chirurgických nástrojoch a implantátoch.

 

Možnosti prispôsobenia


Rozmery komory a rozloženie portu:Porty na monitorovanie objemu a optických emisií (OEM) na mieru.


Generátory:Zákazníkom -špecifikované značky napájacích zdrojov alebo špecializované pulzné{1}}konfigurácie.


Filtrácia:Magnetické polia riadenia a filtre makročastíc pre optické/elektronické povrchové úpravy s nulovými{0}}kvapkami.


automatizácia:Integrácia SCADA a konektivita databázy SQL pre protokolovanie údajov Industry 4.0.

 

Kontrola kvality a akceptačné testovanie v továrni


Testovanie netesnosti:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na všetkých zvaroch (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).


Elektrická bezpečnosť:Overenie izolačného odporu, uzemnenia a blokovania podľa noriem CE/NFPA.


Funkčný chod nasucho:72-hodinový nepretržitý mechanický a ventilový cyklický test.


Overenie procesu:Testovanie referenčného kupónu na tvrdosť nanoindentácie a priľnavosť voči poškriabaniu.

 

Inštalácia a podpora


Pred-inštaláciou:Plány rozloženia pomôcok pre energiu, vodu, výfuk a stlačený vzduch.


Uvedenie do prevádzky:Na{0}}nastavenie a skúšobné prevádzky na mieste dohliadajú inžinieri z výroby.


Školenie:Praktické{0}}návody na prevádzku, výmenu katódy a školenie o bežnej údržbe.


Starostlivosť počas životného cyklu:Bezpečná vzdialená diagnostika VPN a poskytovanie miestnych náhradných dielov.

 

FAQ

 

Otázka: Ako sa kontrolujú makročastice (kvapôčky) počas nanášania katódovým oblúkom?

Odpoveď: Zmiernenie sa spolieha na optimalizované oblúkové prúdy, vysokorýchlostné{0}}magnetické riadenie a voliteľné magnetické makročasticové filtre pre mimoriadne-hladký povrch.

Otázka: Aká je typická cieľová miera využitia katódy?

Odpoveď: Využitie sa pohybuje medzi 55 % a 70 % na základe profilov erózie katódy a konfigurácií magnetického poľa.

Otázka: Dokáže systém riadiť reaktívnu depozíciu plynu pre multi{0}}filmy, ako je TiAlN?

A: Áno. Hmotnostné prietokové regulátory (MFC) využívajú optickú emisiu alebo spätnú väzbu parciálneho tlaku na stabilizáciu reaktívnych tokov (N2, CH4) a udržiavanie stechiometrického zloženia.

Otázka: Aké sú požiadavky na elektrickú energiu?

A: Štandardné systémy vyžadujú 3-fázové napájanie (380V-480V, 50/60 Hz), s celkovým zaťažením v rozsahu 60 kVA až 150 kVA v závislosti od množstva katód.

 

Populárne Tagy: viac-oblúkový systém nanášania iónov, Čína viac-výrobcovia, dodávatelia, továreň, tenký filmový laminujúci vybavenie

Zaslať požiadavku
Kontaktujte násak máte nejakú otázku

Môžete nás kontaktovať telefonicky, e-mailom alebo online formulárom nižšie. Náš špecialista vás bude čoskoro kontaktovať.

Kontaktujte teraz!