The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionizácia pevného katódového materiálu, vháňajúca vysokoenergetické iónové bombardovanie do rozhrania substrátu pre lepšiu priľnavosť filmu v porovnaní s magnetrónovým naprašovaním.
Dvojstenná -nehrdzavejúca- oceľová vákuová komora obsahuje modulárne oblúkové zdroje a PLC-riadený automatizovaný cyklus, ktorý riadi pumpovanie-nadol,-in situ plazmové leptanie, dodávanie reaktívneho plynu a viac{5}}vrstvové nanášanie.
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Špecifikácia |
|
Veľkosť komory |
Prispôsobený vnútorný priemer (Phi 800 mm - Phi 1500 mm) |
|
Materiál nádoby |
Dvojstenný SUS304 / SUS316L s vnútornými chladiacimi kanálmi |
|
Základný tlak |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
Pump{0}}Čas výpadku |
Atmosféra do 6,0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty) |
|
Oblúkové katódy |
4 až 12 pravouhlých alebo kruhových prameňov |
|
Napájacie zdroje |
Jednosmerný oblúk (0-200 A) a pulzné predpätie (0-3000 V) |
|
Rotácia substrátu |
Viac{0}}planetárne/jednoosové{1}}otáčanie prostredníctvom priechodky s magnetickou kvapalinou |
|
Kontrolný systém |
Siemens S7-1500 PLC + IPC s automatizovanými receptúrami |
|
Požiadavky na úžitkové vlastnosti |
Chladiaca voda (18-25 C, 0,2-0,4 MPa); Stlačený vzduch (0,5-0,7 MPa) |
Kľúčové vlastnosti
Vysoká miera ionizácie:Minimalizuje delamináciu filmu prostredníctvom bombardovania hustými iónmi.
Stabilita riadeného oblúka:Programovateľné spúšťače a regulácia prúdu v uzavretej -slučke potláčajú tvorbu makročastíc (kvapôčok) a zabraňujú otrave cieľa reaktívnymi plynmi (N2, C2H2, O2).
Zdroje modulárneho oblúka:Bočné umiestnenie a umiestnenie dverí sa prispôsobujú zložitým geometriám 3D nástrojov pre rovnomerné rozloženie hrúbky.
Pulzné predpätie substrátu:Synchronizované napäťové impulzy prispôsobujú zvyškové napätie, zjemnenie zrna a mikrotvrdosť.
Fázy rotácie v ťažkých{0}}zaťaženiach:Planétové svietidlá podporujú dávkové zaťaženie až 500 kg pri vysokom tepelnom a vákuovom zaťažení.
Konfigurácia vákuového systému
Hrubovanie a korene:Viac{0}}stupňové suché skrutkové čerpadlá spárované s Rootsovými dúchadlami zabraňujú kontaminácii uhľovodíkmi až po prechodné tlaky.
Vysoké vákuum:Turbomolekulárne alebo difúzne pumpy udržujú ultra{0}}vysoký základný tlak.
Zachytenie a meranie:Voliteľné vymrazovače kvapalného dusíka; široký-rozsah kombinovaných meradiel Pirani/studená katóda.
Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu
Katódové ciele:Čisté kovy (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) a zliatinové terče (TiAl, TiSi, CrAl, WC{0}}Co).
Materiály podkladu:Rýchlorezná oceľ (HSS), karbidové doštičky, nástrojové ocele na prácu za studena/za tepla (SKD11, H13), nehrdzavejúca oceľ a zliatiny titánu.
Pred-liečba:Vodné ultrazvukové čistenie, po ktorom nasleduje in situ Ar+ alebo leptanie kovovými iónmi na odstránenie prirodzených oxidov.
Aplikácie
Nástroje na rezanie:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >Tvrdosť povrchu 3000 HV a odolnosť proti oxidácii.
Formy a matrice:Ochranné vrstvy na vstrekovacích formách a lisovacích nástrojoch zabraňujúce zadretiu a abrazívnemu opotrebovaniu.
Automobilový priemysel:Povlaky DLC a CrN na piestnych krúžkoch, ozubených kolesách a čapoch vstrekovačov na zníženie koeficientov trenia.
Lekárske pomôcky:Biokompatibilné povlaky TiN/TiCN na chirurgických nástrojoch a implantátoch.
Možnosti prispôsobenia
Rozmery komory a rozloženie portu:Porty na monitorovanie objemu a optických emisií (OEM) na mieru.
Generátory:Zákazníkom -špecifikované značky napájacích zdrojov alebo špecializované pulzné{1}}konfigurácie.
Filtrácia:Magnetické polia riadenia a filtre makročastíc pre optické/elektronické povrchové úpravy s nulovými{0}}kvapkami.
automatizácia:Integrácia SCADA a konektivita databázy SQL pre protokolovanie údajov Industry 4.0.
Kontrola kvality a akceptačné testovanie v továrni
Testovanie netesnosti:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na všetkých zvaroch (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
Elektrická bezpečnosť:Overenie izolačného odporu, uzemnenia a blokovania podľa noriem CE/NFPA.
Funkčný chod nasucho:72-hodinový nepretržitý mechanický a ventilový cyklický test.
Overenie procesu:Testovanie referenčného kupónu na tvrdosť nanoindentácie a priľnavosť voči poškriabaniu.
Inštalácia a podpora
Pred-inštaláciou:Plány rozloženia pomôcok pre energiu, vodu, výfuk a stlačený vzduch.
Uvedenie do prevádzky:Na{0}}nastavenie a skúšobné prevádzky na mieste dohliadajú inžinieri z výroby.
Školenie:Praktické{0}}návody na prevádzku, výmenu katódy a školenie o bežnej údržbe.
Starostlivosť počas životného cyklu:Bezpečná vzdialená diagnostika VPN a poskytovanie miestnych náhradných dielov.
FAQ
Otázka: Ako sa kontrolujú makročastice (kvapôčky) počas nanášania katódovým oblúkom?
Odpoveď: Zmiernenie sa spolieha na optimalizované oblúkové prúdy, vysokorýchlostné{0}}magnetické riadenie a voliteľné magnetické makročasticové filtre pre mimoriadne-hladký povrch.
Otázka: Aká je typická cieľová miera využitia katódy?
Odpoveď: Využitie sa pohybuje medzi 55 % a 70 % na základe profilov erózie katódy a konfigurácií magnetického poľa.
Otázka: Dokáže systém riadiť reaktívnu depozíciu plynu pre multi{0}}filmy, ako je TiAlN?
A: Áno. Hmotnostné prietokové regulátory (MFC) využívajú optickú emisiu alebo spätnú väzbu parciálneho tlaku na stabilizáciu reaktívnych tokov (N2, CH4) a udržiavanie stechiometrického zloženia.
Otázka: Aké sú požiadavky na elektrickú energiu?
A: Štandardné systémy vyžadujú 3-fázové napájanie (380V-480V, 50/60 Hz), s celkovým zaťažením v rozsahu 60 kVA až 150 kVA v závislosti od množstva katód.
Populárne Tagy: viac-oblúkový systém nanášania iónov, Čína viac-výrobcovia, dodávatelia, továreň, tenký filmový laminujúci vybavenie

