PVD Hybrid Thin Film Deposition System integruje tepelné odparovanie, odparovanie elektrónovým lúčom (e-lúčom) a RF/DC magnetrónové naprašovanie v rámci jedinej vákuovej architektúry. Táto platforma umožňuje sekvenčné alebo spoločné{2}}ukladanie kovov, zliatin a dielektrík bez narušenia vákua, čím sa bráni oxidácii na rozhraní. Systém bol navrhnutý pre výskumné a vývojové inštitúcie a pilotné výrobné linky a dokáže spracovať substráty až do 6 palcov s automatizovaným viacosým otáčaním-.
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Špecifikácia |
|
Konečný základný tlak |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Pump{0}}čas |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Veľkosť substrátu |
Oblátkové / vlastné držiaky s priemerom až 6 palcov |
|
Rovnomernosť hrúbky filmu |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Depozičné zdroje |
Až 3 vrecká na e-lúč, 2 termálne člny, 4 magnetrónové katódy |
|
Teplota substrátu |
Okolitá teplota do 800 °C (riadená PID) |
|
Komorový materiál |
304L / 316L elektrolyticky leštená nehrdzavejúca oceľ |
|
Súlad s bezpečnosťou |
kompatibilný s CE; komponenty vyrobené podľa noriem UL / NFPA na požiadanie |
Kľúčové vlastnosti
Modulárne zásuvky:Vymeniteľné príruby zdroja umožňujú rýchlu rekonfiguráciu medzi naprašovacími katódami a tepelnými/e{0}}lúčovými odparovačmi.
Architektúra izolácie:Pneumatické posúvače izolujú procesnú komoru od vysokého-vákua, aby sa minimalizovalo vytváranie častíc.
In{0}}monitorovanie na mieste:Vyhradené porty pre snímače mikrováhy z kremenných kryštálov (QCM) a optickú emisnú spektroskopiu (OES).
Blokované bezpečnostné PLC:Hardvérové blokovania zabraňujú aktivácii zdroja pri vysokom tlaku, poruche chladiacej vody alebo narušení bezpečnosti.
Konfigurácia vákuového systému
Hrubovacie čerpadlo:Suché špirálové čerpadlo (30 m^3/h), aby sa eliminovalo spätné prúdenie uhľovodíkov.
Vysoká vákuová pumpa:Magneticky levitované turbomolekulárne čerpadlo (1200 l/s pre N2) podporované kryogénnou pascou.
Meradlá:Kombinované snímače Pirani a studená katóda pokrývajúce atmosféru do 10^-7 Pa.
Pečenie:Ohrievacie plášte kazety s vonkajšími izolačnými prikrývkami dosahujúcimi až 150 °C.
Kompatibilita materiálov a substrátov
Materiály na odparovanie:
Kovy:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektrika a oxidy: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Polovodiče:Si, Ge
Typy substrátov:Jedno{0}}kryštálové kremíkové doštičky, sklo, kremeň, polyimidové filmy a kovové fólie.
Aplikácie
Optoelektronické zariadenia:Transparentné vodivé elektródy (ITO) a viac{0}}vrstvové reflektory pre OLED a solárne články.
Mikroelektronické balenie:Pod-nárazová metalizácia (UBM) a vrstvy semien pre obaly na úrovni oblátok-.
Pokročilý výskum a vývoj:Štruktúry kvantových zariadení, tenké vrstvy supravodičov a magnetické tunelové spojenia (MTJ).
Možnosti prispôsobenia
Komorová mierka:Rozšírené rozmery pre 12-palcové substráty alebo integráciu odkladacej schránky.
Nastavenie zdroja:Vlastné objemy téglikov, vysokofrekvenčné predpäťové napájacie zdroje a moduly -asistovanej depozície (IAD) iónov.
automatizácia:Správa receptov na dotykovej obrazovke alebo úplná zhoda s automatizáciou výroby SECS/GEM.
Kontrola kvality
Testovanie netesnosti:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na komoru (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Rozmerové kontroly:Overenie CMM od zdrojov-k{1}}vzdialenosti substrátu a tolerancie prírub.
Elektrické testovanie:Dobrý deň,{0}}testovanie hrncov, kontroly kontinuity uzemnenia a audity EHS na všetkých vysokonapäťových vedeniach-.
Inštalácia a podpora
Továrenské akceptačné testovanie (FAT):Pred{0}}dodávkou kontrolujeme základný tlak, funkčnosť zdroja a automatické cyklovanie v našom zariadení.
Inštalácia v teréne:Mechanické zarovnanie na{0}}stránke, overenie pripojenia pomocného programu a test akceptácie stránky (SAT).
Dokumentácia:Kompletná dodávka zahŕňa elektrické schémy, P&ID schémy, zálohy PLC a osvedčenia o skúške mlynov.
FAQ
Otázka: Môže systém prepínať medzi reaktívnym naprašovaním a tepelným vyparovaním v jednom chode?
A: Áno. Pneumatické uzávery izolujú každý zdroj a umožňujú sekvenčné vykonávanie bez prerušenia vákua.
Otázka: Aké sú požiadavky na služby zariadenia?
Odpoveď: Vyžaduje 3-fázové napájanie 380 V/480 V, chladiacu vodu (18 °C až 22 °C pri 0,3 MPa), stlačený vzduch (0,5 až 0,7 MPa) a výfukové potrubie z hrubovacieho čerpadla.
Otázka: Ako sa predchádza krížovej{0}}kontaminácii medzi kovovými zdrojmi?
Odpoveď: Jednotlivé zdrojové komíny, smerové usmerňovače a fyzické uzávery minimalizujú vzájomné{0}}prehovory medzi materiálmi počas viacerých-zdrojov.
Populárne Tagy: pvd hybridný systém nanášania tenkých vrstiev, Čína výrobcovia hybridných systémov nanášania tenkých vrstiev pvd, dodávatelia, továreň
