Systém fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) využívajúci lokalizované nízkonapäťové{0}}vysokoprúdové{1}}elektrické oblúky na odparovanie pevných katódových cieľov na plne ionizovanú plazmu. Vysoká miera ionizácie (40 %{5}}80 %) poháňa hustú väzbu na atómovej-úrovni a vysoké tlakové napätie, čo umožňuje-nanášanie dekoratívnych povlakov odolných voči opotrebovaniu- na rýchloreznej oceli (HSS), karbidových rezných nástrojoch, automobilových komponentoch a lekárskych prístrojoch.
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Rozsah špecifikácií / Podrobnosti |
|
Rozmery komory |
Prispôsobený vnútorný objem (Φ 800 × 1000 mm až Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L s dvojitou -stenou vodou-chladením) |
|
Konečný tlak |
Menšie alebo rovné 5,0 × 10⁻⁴ Pa (turbomolekulárna konfigurácia a konfigurácia koreňového/rotačného podporného čerpadla) |
|
Pracovný tlak |
0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N2, C2H2, O2) |
|
Zdroje katódového oblúka |
4 až 12 distribuovaných kruhových/obdĺžnikových filtrovaných alebo štandardných zdrojov s nezávislým magnetickým riadením |
|
Substrate Bias |
Pulzné jednosmerné predpätie (0 až -1000 V nastaviteľné, 10–100 kHz) |
|
Vykurovací systém |
Sálavé kremenné ohrievače; maximálna teplota pečenia 500 stupňov (jednotnosť ± 5 stupňov) |
|
Riadiaca architektúra |
Siemens PLC + priemyselné PC (IPC); automatické vykonávanie receptov a manuálne prepisovanie hardvéru |
|
Elektrické napájanie |
3-fázové, 380V/480V, 50Hz/60Hz (konfigurované podľa regionálnych noriem) |
Kľúčové vlastnosti
Vysoká ionizačná účinnosť:Plazmová ionizácia dosahuje 40 %-80 %, čo zaisťuje vynikajúcu priľnavosť filmu- k substrátu.
Modulárne katódy:Rýchla{0}}výmena cieľovej zostavy minimalizuje prestoje spojené s údržbou; kompatibilný s rovinnými a otočnými valcovými katódami.
Uzavretá{0}}regulácia plynu:Regulátory hmotnostného prietoku MKS udržujú presné parciálne tlaky reaktívneho plynu pre zložené filmy (TiAlN, TiCN).
Viac{0}}osové planetárne otáčanie:Prispôsobené rotačné a rotačné pohony zaisťujú rovnomernosť hrúbky (± 5 %) v zložitých 3D geometriách.
Prevádzka v dvoch{0}}režimoch:Podporuje jednosmerné oblúkové odparovanie a integráciu pulzného naprašovania pre viac{0}}vrstvové architektúry.
Konfigurácia vákuového systému
Hrubovacie čerpadlá:Kombinácia Rootsovej a rotačnej lopatkovej pumpy na rýchle pumpovanie-z atmosféry na 10 Pa.
Vysoká vákuová pumpa:Magneticky levitované turbomolekulárne čerpadlo (1600–3200 l/s) zaisťujúce základný tlak-bez uhľovodíkov.
Ventily a meranie:Pneumatické vysoko vákuové posúvače{0}}s blokovaním Pirani a studenou katódou, aby sa zabránilo spätnému toku oleja.
[Vizuálna príručka pre webového producenta]:Vložte schematickú alebo jasnú fotografiu usporiadania vákuového potrubia so zvýraznením polohy turbomolekulárneho čerpadla a pneumatického posúvača.
Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu
Štandardné katódové ciele (čistota väčšia alebo rovná 99,95 %)
Prechodné kovy:Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (50/50, 33/67 atómové pomery), CrAl, W, Nb, Si.
Zliatiny a zlúčeniny:Grafit (pre medzivrstvy DLC), nehrdzavejúca oceľ.
Kompatibilita substrátu a pred{0}}úprava
Materiály:WC-Co rezné nástroje, odvalovacie frézy, preťahovače, raznice, vstrekovacie formy, zliatiny titánu (trieda 5) a nehrdzavejúca oceľ.
Pred-liečba:Ultrazvukové odmasťovanie rozpúšťadlom a čistenie in situ iónovým bombardovaním (Ar⁺ plazmové leptanie) vo vnútri komory pred nanesením.
Aplikácie
Nástroje na rezanie a tvarovanie:Povlaky TiN, TiAlN a AlCrN zvyšujú tvrdosť povrchu na 3000–3500 HV, čím potláčajú tepelné krátery a abrazívne opotrebenie.
Automobilové komponenty:Povlaky znižujúce trenie- na piestne krúžky, čapy vstrekovania paliva a súčasti prevodovky.
Lekárske implantáty:Biokompatibilné tvrdé povlaky TiN a ZrN na ortopedických kĺbových náhradách a chirurgických skrutkách.
Dekoratívny hardvér:Výroba farebného spektra (zlatá mosadz, ružové zlato, bronzová čierna, titánová sivá) pomocou ladenia reaktívnym plynom.
Možnosti prispôsobenia
Geometria komory:Konfigurácie vertikálneho nakladania (-namontované alebo na podlahe-) alebo horizontálne predné-nakladanie.
Konfigurácia zdroja:Zdroje magnetického kanála s filtrovaným katódovým oblúkom (FAC) na elimináciu makročastíc pre optickú alebo presnú elektroniku.
automatizácia:Robotické nakladacie ramená, integrácia AGV dokovania a protokoly MES na zaznamenávanie údajov.
Kontrola kvality a výrobné testovanie
Detekcia úniku:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na všetkých komorách a zvarových švoch ( menšie alebo rovné 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).
Elektrická bezpečnosť:Overenie funkčnosti vysokého-izolačného odporu, kontinuity uzemnenia a blokovania PLC.
Skúšobná prevádzka (FAT):72-hodinový nepretržitý suchý-test plus štandardný test nanášania povlaku hodnotený pomocou Calo-testu (hrúbka) a škrabancov (adhézia).
Balík dokumentácie:Elektrické schémy, P&ID diagramy, PLC zdrojové kódy, materiálové certifikáty a FAT správy.
Inštalácia a technická podpora
Príprava miesta:Podrobné výkresy rozloženia, metriky chladiacej vody a špecifikácie distribúcie energie poskytnuté 4 týždne pred odoslaním.
Uvedenie do prevádzky:Mechanická montáž-na mieste, vákuová kalibrácia a odovzdanie receptúry staršími procesnými inžiniermi.
Školenie:Praktické-pokyny týkajúce sa údržby hardvéru, riešenia problémov s vysávačom a bezpečnostných protokolov.
Podpora:Vzdialená integrácia diagnostického softvéru na riešenie problémov s PLC v reálnom čase- s podporou regionálneho inventára náhradných dielov.
FAQ
Otázka: Ako systém kontroluje makročastice (kvapôčky)?
Odpoveď: Štandardné systémy využívajú optimalizované magnetické polia na rýchle riadenie oblúkových bodov. Pre optické alebo ultra{1}}hladké aplikácie integrujeme magnetické kanály s filtrovaným katódovým oblúkom (FAC), aby sme kvapôčky úplne odfiltrovali.
Otázka: Aká je cieľová miera využitia a čas výmeny?
Odpoveď: Rovinné a kruhové ciele dosahujú využitie 45 %-60 %. Terče sú chladené vodou-a namontované pomocou rýchloupínacích tesnení, čo umožňuje výmenu terča do 45 minút.
Otázka: Aké sú požiadavky na služby zariadenia?
A: Prívod chladenej vody (8–15 m³/h, 18–22 stupňov, 0,2–0,3 MPa), stlačený vzduch (0,6 MPa) a stabilná 3-fázová priemyselná energia.
Otázka: Je možné preniesť existujúce receptúry procesu?
A: Áno. Platforma Siemens IPC umožňuje priamy vstup parametrov pre prúd oblúka, predpätie, prietok plynu a trvanie tak, aby vyhovovali existujúcim priemyselným receptúram.
Populárne Tagy: Tenkovrstvové zariadenia s katódovým oblúkom, Čína výrobcovia tenkovrstvových zariadení s katódovým oblúkom, dodávatelia, továreň, trvanlivé tenké filmové vybavenie, tenké filmové vybavenie pre aplikácie výroby zariadení umelej inteligencie, tenký plazmový systém, tenký rozprašovací systém, tenký vákuový systém

