Zariadenie na tenký film s katódovým oblúkom

Zariadenie na tenký film s katódovým oblúkom

Podrobnosti
Systém fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) využívajúci lokalizované nízkonapäťové{0}}vysokoprúdové{1}}elektrické oblúky na odparovanie pevných katódových cieľov na plne ionizovanú plazmu. Vysoká miera ionizácie (40 %{5}}80 %) poháňa hustú väzbu na atómovej-úrovni a vysoké tlakové napätie, čo umožňuje-nanášanie dekoratívnych povlakov odolných voči opotrebovaniu- na rýchloreznej oceli (HSS), karbidových rezných nástrojoch, automobilových komponentoch a lekárskych prístrojoch.
Klasifikácia výrobku
Tenkovrstvové zariadenie na odparovanie oblúka
 
Zaslať požiadavku
Popis
Technické parametre

Systém fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD) využívajúci lokalizované nízkonapäťové{0}}vysokoprúdové{1}}elektrické oblúky na odparovanie pevných katódových cieľov na plne ionizovanú plazmu. Vysoká miera ionizácie (40 %{5}}80 %) poháňa hustú väzbu na atómovej-úrovni a vysoké tlakové napätie, čo umožňuje-nanášanie dekoratívnych povlakov odolných voči opotrebovaniu- na rýchloreznej oceli (HSS), karbidových rezných nástrojoch, automobilových komponentoch a lekárskych prístrojoch.

 

Technické špecifikácie

 

Parameter

Rozsah špecifikácií / Podrobnosti

Rozmery komory

Prispôsobený vnútorný objem (Φ 800 × 1000 mm až Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L s dvojitou -stenou vodou-chladením)

Konečný tlak

Menšie alebo rovné 5,0 × 10⁻⁴ Pa (turbomolekulárna konfigurácia a konfigurácia koreňového/rotačného podporného čerpadla)

Pracovný tlak

0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N2, C2H2, O2)

Zdroje katódového oblúka

4 až 12 distribuovaných kruhových/obdĺžnikových filtrovaných alebo štandardných zdrojov s nezávislým magnetickým riadením

Substrate Bias

Pulzné jednosmerné predpätie (0 až -1000 V nastaviteľné, 10–100 kHz)

Vykurovací systém

Sálavé kremenné ohrievače; maximálna teplota pečenia 500 stupňov (jednotnosť ± 5 stupňov)

Riadiaca architektúra

Siemens PLC + priemyselné PC (IPC); automatické vykonávanie receptov a manuálne prepisovanie hardvéru

Elektrické napájanie

3-fázové, 380V/480V, 50Hz/60Hz (konfigurované podľa regionálnych noriem)

 

Kľúčové vlastnosti


Vysoká ionizačná účinnosť:Plazmová ionizácia dosahuje 40 %-80 %, čo zaisťuje vynikajúcu priľnavosť filmu- k substrátu.


Modulárne katódy:Rýchla{0}}výmena cieľovej zostavy minimalizuje prestoje spojené s údržbou; kompatibilný s rovinnými a otočnými valcovými katódami.


Uzavretá{0}}regulácia plynu:Regulátory hmotnostného prietoku MKS udržujú presné parciálne tlaky reaktívneho plynu pre zložené filmy (TiAlN, TiCN).


Viac{0}}osové planetárne otáčanie:Prispôsobené rotačné a rotačné pohony zaisťujú rovnomernosť hrúbky (± 5 %) v zložitých 3D geometriách.


Prevádzka v dvoch{0}}režimoch:Podporuje jednosmerné oblúkové odparovanie a integráciu pulzného naprašovania pre viac{0}}vrstvové architektúry.

 

Konfigurácia vákuového systému


Hrubovacie čerpadlá:Kombinácia Rootsovej a rotačnej lopatkovej pumpy na rýchle pumpovanie-z atmosféry na 10 Pa.


Vysoká vákuová pumpa:Magneticky levitované turbomolekulárne čerpadlo (1600–3200 l/s) zaisťujúce základný tlak-bez uhľovodíkov.


Ventily a meranie:Pneumatické vysoko vákuové posúvače{0}}s blokovaním Pirani a studenou katódou, aby sa zabránilo spätnému toku oleja.


[Vizuálna príručka pre webového producenta]:Vložte schematickú alebo jasnú fotografiu usporiadania vákuového potrubia so zvýraznením polohy turbomolekulárneho čerpadla a pneumatického posúvača.

 

Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu


Štandardné katódové ciele (čistota väčšia alebo rovná 99,95 %)
Prechodné kovy:
Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (50/50, 33/67 atómové pomery), CrAl, W, Nb, Si.


Zliatiny a zlúčeniny:Grafit (pre medzivrstvy DLC), nehrdzavejúca oceľ.


Kompatibilita substrátu a pred{0}}úprava
Materiály:
WC-Co rezné nástroje, odvalovacie frézy, preťahovače, raznice, vstrekovacie formy, zliatiny titánu (trieda 5) a nehrdzavejúca oceľ.


Pred-liečba:Ultrazvukové odmasťovanie rozpúšťadlom a čistenie in situ iónovým bombardovaním (Ar⁺ plazmové leptanie) vo vnútri komory pred nanesením.

 

Aplikácie


Nástroje na rezanie a tvarovanie:Povlaky TiN, TiAlN a AlCrN zvyšujú tvrdosť povrchu na 3000–3500 HV, čím potláčajú tepelné krátery a abrazívne opotrebenie.


Automobilové komponenty:Povlaky znižujúce trenie- na piestne krúžky, čapy vstrekovania paliva a súčasti prevodovky.


Lekárske implantáty:Biokompatibilné tvrdé povlaky TiN a ZrN na ortopedických kĺbových náhradách a chirurgických skrutkách.


Dekoratívny hardvér:Výroba farebného spektra (zlatá mosadz, ružové zlato, bronzová čierna, titánová sivá) pomocou ladenia reaktívnym plynom.

 

Možnosti prispôsobenia


Geometria komory:Konfigurácie vertikálneho nakladania (-namontované alebo na podlahe-) alebo horizontálne predné-nakladanie.


Konfigurácia zdroja:Zdroje magnetického kanála s filtrovaným katódovým oblúkom (FAC) na elimináciu makročastíc pre optickú alebo presnú elektroniku.


automatizácia:Robotické nakladacie ramená, integrácia AGV dokovania a protokoly MES na zaznamenávanie údajov.

 

Kontrola kvality a výrobné testovanie


Detekcia úniku:Testovanie héliovým hmotnostným spektrometrom na všetkých komorách a zvarových švoch ( menšie alebo rovné 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).


Elektrická bezpečnosť:Overenie funkčnosti vysokého-izolačného odporu, kontinuity uzemnenia a blokovania PLC.


Skúšobná prevádzka (FAT):72-hodinový nepretržitý suchý-test plus štandardný test nanášania povlaku hodnotený pomocou Calo-testu (hrúbka) a škrabancov (adhézia).


Balík dokumentácie:Elektrické schémy, P&ID diagramy, PLC zdrojové kódy, materiálové certifikáty a FAT správy.

 

Inštalácia a technická podpora


Príprava miesta:Podrobné výkresy rozloženia, metriky chladiacej vody a špecifikácie distribúcie energie poskytnuté 4 týždne pred odoslaním.


Uvedenie do prevádzky:Mechanická montáž-na mieste, vákuová kalibrácia a odovzdanie receptúry staršími procesnými inžiniermi.


Školenie:Praktické-pokyny týkajúce sa údržby hardvéru, riešenia problémov s vysávačom a bezpečnostných protokolov.


Podpora:Vzdialená integrácia diagnostického softvéru na riešenie problémov s PLC v reálnom čase- s podporou regionálneho inventára náhradných dielov.

 

FAQ

 

Otázka: Ako systém kontroluje makročastice (kvapôčky)?

Odpoveď: Štandardné systémy využívajú optimalizované magnetické polia na rýchle riadenie oblúkových bodov. Pre optické alebo ultra{1}}hladké aplikácie integrujeme magnetické kanály s filtrovaným katódovým oblúkom (FAC), aby sme kvapôčky úplne odfiltrovali.

Otázka: Aká je cieľová miera využitia a čas výmeny?

Odpoveď: Rovinné a kruhové ciele dosahujú využitie 45 %-60 %. Terče sú chladené vodou-a namontované pomocou rýchloupínacích tesnení, čo umožňuje výmenu terča do 45 minút.

Otázka: Aké sú požiadavky na služby zariadenia?

A: Prívod chladenej vody (8–15 m³/h, 18–22 stupňov, 0,2–0,3 MPa), stlačený vzduch (0,6 MPa) a stabilná 3-fázová priemyselná energia.

Otázka: Je možné preniesť existujúce receptúry procesu?

A: Áno. Platforma Siemens IPC umožňuje priamy vstup parametrov pre prúd oblúka, predpätie, prietok plynu a trvanie tak, aby vyhovovali existujúcim priemyselným receptúram.

 

Populárne Tagy: Tenkovrstvové zariadenia s katódovým oblúkom, Čína výrobcovia tenkovrstvových zariadení s katódovým oblúkom, dodávatelia, továreň, trvanlivé tenké filmové vybavenie, tenké filmové vybavenie pre aplikácie výroby zariadení umelej inteligencie, tenký plazmový systém, tenký rozprašovací systém, tenký vákuový systém

Zaslať požiadavku
Kontaktujte násak máte nejakú otázku

Môžete nás kontaktovať telefonicky, e-mailom alebo online formulárom nižšie. Náš špecialista vás bude čoskoro kontaktovať.

Kontaktujte teraz!