Platforma priemyselného fyzikálnej depozície z pár (PVD) navrhnutá pre-vysokorýchlostnú syntézu hustých, opotrebenia-odolných a funkčných tvrdých povlakov. Udržiavanie vysokoprúdového, nízkonapäťového katódového oblúkového výboja na pevných povrchoch terča generuje 80 % až takmer 100 % ionizovaného prúdu plazmy.
V kombinácii s programovateľným negatívnym vychýlením substrátu táto vysoká kinetická energia poháňa miešanie na rozhraní atómového-rozsahu, čím sa dosahuje vynikajúca priľnavosť filmu a nulová stĺpcová pórovitosť. Architektúra komory podporuje modulárne viac{2}}katódové konfigurácie pre automatizované nanášanie jednovrstvových, viac{4}}vrstvových nano-laminátov a stechiometrických gradientových povlakov (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).
Technické špecifikácie
|
Parameter |
Technická špecifikácia |
|
Rozmery komory |
Vlastné valcové/obdĺžnikové (Štandard: Phi 800 mm x 1000 mm až Phi 2000 mm) |
|
Štruktúra komory |
Dvojitá-nerezová oceľ SUS304/316L s integrovanými špirálovými kanálmi chladiacej vody |
|
Konečný vákuový tlak |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack) |
|
Cyklus pumpovania- |
Atmosféra do 6,0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes |
|
Zdroje katódového oblúka |
4 až 8 nezávislých DC kanálov (Phi 85 mm / Phi 100 mm vodou-chladené držiaky terčov) |
|
Výkon oblúka |
0-200 A plynule nastaviteľné na kanál; integrované mikrosekundové zhášanie oblúka |
|
Substrate Bias Supply |
0-1000 V nastaviteľné, pulzný jednosmerný výstup (frekvenčný rozsah 10-50 kHz) |
|
Vyhrievanie substrátu |
Quartzové pole infračervených lámp; prevádzkový strop 600 stupňov (jednotnosť +/- 5 stupňov) |
|
Pohyb zariadenia |
Planetárna alebo dvojosová rotácia{0}} prostredníctvom magnetických kvapalinových rotačných priechodiek (0-5 RPM) |
|
Riadiaca architektúra |
PLC + priemyselné PC (IPC) s vykonávaním receptu-v reálnom čase s pevne zapojenými bezpečnostnými blokovaniami |
Kľúčové vlastnosti
Vysoká miera ionizácie:Priame katodické odparovanie premieňa kovový tok na ióny s vysokou -hustotou, čím sa podporuje hustá štruktúra zŕn bez mikro-dutín.
Aktívne magnetické riadenie:Programovateľné elektromagnetické cievky prechádzajú oblúkovým bodom cez cieľové plochy, potláčajú lokalizované krátery a riadia využitie materiálu cieľa nad 60 %.
Dynamická kontrola plynu:Regulátory hmotnostného toku (MFC) v uzavretej{0}slučke regulujú vstrekovanie reaktívneho plynu (N2, O2, C2H2) prostredníctvom spätnej väzby parciálneho tlaku v-reálnom čase.
Viac{0}}zdrojová synergia:Steny komory sú prispôsobené rozloženiam hybridných cieľov, čo umožňuje neprerušované postupné nanášanie viaczložkových keramických vrstiev v jedinom cykle vákua.
Konfigurácia vákuového systému
Skupina hrubovania a koreňov:Rotačné lopatkové čerpadlo s priamym{0}}pohonom spárované s-vysokoobjemovým Rootsovým dúchadlom na zvládanie vysokého zaťaženia plynu počas reaktívneho spracovania.
Stupeň vysokého vákua:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 l/s) pripojený cez vysoko{1}}vodivý pneumatický posúvač.
Vákuové prístroje:Prepojené nastavenie Piraniho a studenej katódy s duálnym{0}}tlakom na monitorovanie celkového tlaku v rozsahu od atmosféry až po 10^-6 Pa.
Integrita úniku:Elastomérové-utesnené príruby s vodným{1}}chladením{1}}udržiavajú úniky systému pod 1,0 x 10^-9 Pa*m3/s.
Odparovacie materiály a kompatibilita substrátu
Katódové cieľové materiály
Prechodové kovy a zliatiny:Titán (Ti), chróm (Cr), zirkón (Zr), hliník (Al), titán{0}}hliník (TiAl 50/50, 33/67), volfrám (W).
Ne-kovové:Vysoko{0}}grafit (C) pre diamantové-uhlíkové (DLC) a karbidové vrstvy.
Priemyselné substráty
Nástrojové ocele a karbidy:Vysokorýchlostná-oceľ (HSS), slinuté karbidy (WC-Co).
Konštrukčné zliatiny:Austenitické/martenzitické nehrdzavejúce ocele, zliatiny titánu (TC4), -niklové superzliatiny (Inconel).
Aplikácie
Presné rezné nástroje:Nanášanie TiAlN a AlTiN na vrtáky, stopkové frézy a ozubené dosky na zvýšenie tvrdosti povrchu na 3300-3500 HV a zvýšenie odolnosti proti tepelnej oxidácii až o 800 stupňov.
Automobilové inžinierstvo:Povlaky s nízkym{0}}trením a opotrebením- na komponentoch vstrekovania paliva, piestnych krúžkoch a zdvihátkách.
Formy a matrice:Nanášanie nitridu chrómu (CrN) na plastové vstrekovacie formy, aby sa zabránilo opotrebovaniu lepidla, mikro-zváraniu a lepeniu živice.
Možnosti prispôsobenia
Veľkosť komory:Geometrické úpravy prispôsobené pre nadrozmerné architektonické panely alebo vysokovýkonné{0}}kausely s malými nástrojmi.
Hybridizácia zdroja:Integrácia zdrojov katódového oblúka s nevyváženým magnetrónovým (UBM) naprašovaním alebo katódami HiPIMS do jednotného tela.
Rozhrania automatizácie:Továrenská integrácia MES prostredníctvom protokolov OPC{0}}UA spolu s automatickými možnosťami nakladania.
Kontrola kvality a výrobné testovanie
Overenie úniku hélia:Kontrola tesnosti hmotnostným spektrometrom vykonaná na všetkých zvarencoch a vákuových tesneniach.
Audit elektrickej bezpečnosti:Testovanie izolácie Hipot, kontroly kontinuity uzemnenia a overenie obvodovej slučky E-zastavenia.
72-hodinový test horenia:Nepretržité cyklovanie nasucho{0}}suchnutia mechanických rotačných pohonov, spínačov prietoku vody a sekvencií ventilov PLC pred demontážou.
Továrenské akceptačné testovanie (FAT):Vykonáva sa na mieste- na overenie základných úrovní vákua, stability zapaľovania oblúka a rozloženia základnej hrúbky na kalibračných kupónoch.
Inštalácia a technická podpora
Odovzdanie požiadavky na zariadenie:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 stupňov ), odsávanie výfukových plynov a poklesy napájania (3-fázové, 380V/480V).
Uvedenie do prevádzky v teréne:Dohľad na mieste zo strany technikov mechanických a elektrických polí, ktorý zahŕňa zarovnávanie, pripojenie a skúšobné šarže.
Školenie operátora:Štruktúrované pokyny na konfiguráciu softvérových receptúr, postupy výmeny katódových cieľov a preventívnu údržbu vákua.
Diaľková diagnostika:Bezpečná priemyselná brána VPN zabudovaná v ovládacom paneli pre softvérovú telemetriu a podporu pri riešení problémov.
Často kladené otázky
Otázka: Ako si systém poradí s mikrokvapkami (makročasticami) bežnými v procesoch s nefiltrovaným katódovým oblúkom?
Odpoveď: Štandardné konfigurácie využívajú optimalizované elektromagnetické polia riadenia na riadenie rýchlosti oblúka a minimalizáciu emisií kvapiek. Pre polovodičové alebo optické aplikácie vyžadujúce sub-mikrónové úrovne defektov je možné integrovať moduly magnetického vedenia s filtrovaným katódovým oblúkom (FCA), ktoré zachytávajú neutrálne makročastice.
Otázka: Aký je typický čas obrátky výmeny cieľa?
Odpoveď: Katódy využívajú rýchle-mechanické upínanie. Vyškolený operátor môže vykonať kompletnú sadu výmen terča do 30 minút bez porušenia konštrukčných tesnení komory.
Otázka: Dokáže systém vykonávať automatizované prechody s viacerými vrstvami-bez zásahu operátora?
A: Áno. Modul receptov PLC automaticky riadi viacstupňové recepty, riadi prechody v parciálnych tlakoch reaktívneho plynu, profilovanie odchýlky substrátu a sekvenčnú aktiváciu-kanála výkonu.
Otázka: Aké sú presné základné predpoklady na prípravu lokality?
A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >čistota=99.999 %) a stabilný priemyselný 3-fázový výkon.
Populárne Tagy: zariadenia na nanášanie oblúkovým odparovaním, Čína výrobcovia zariadení na nanášanie oblúkovým odparovaním, dodávatelia, továreň, tenký film PVD

